[發(fā)明專利]板處理裝置及板處理方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910329477.7 | 申請日: | 2019-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN110453221B | 公開(公告)日: | 2021-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 礒圭二 | 申請(專利權(quán))人: | 住友重機(jī)械工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | C23F1/02 | 分類號: | C23F1/02;B05C5/02;B05C9/12;B41J2/01;B41J2/435 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 方法 | ||
本發(fā)明提供一種針對被加工板的兩個面能夠彼此對位后進(jìn)行處理的板處理裝置。打標(biāo)部對支承于工作臺上的被加工板的朝向工作臺的面賦予標(biāo)記。處理部對支承于工作臺上的被加工板的朝向與工作臺相反一側(cè)的面進(jìn)行處理,并且對處理結(jié)果與打標(biāo)部賦予給朝向工作臺的面上的標(biāo)記的位置建立對應(yīng)關(guān)聯(lián)。而且,處理部檢測形成于朝向與工作臺相反一側(cè)的面上的標(biāo)記,并基于檢測到的標(biāo)記的位置對朝向與工作臺相反一側(cè)的面進(jìn)行處理。
本申請主張基于2018年5月8日申請的日本專利申請第2018-090122號的優(yōu)先權(quán)。該日本申請的全部內(nèi)容通過參考援用于本說明書中。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種板處理裝置及板處理方法。
背景技術(shù)
已知有一種對金屬板實(shí)施蝕刻加工從而在金屬板上形成開口的技術(shù)。以下,對現(xiàn)有的蝕刻加工的工法進(jìn)行說明。
在不銹鋼或銅等金屬板的兩個面粘貼干膜抗蝕劑。經(jīng)由光掩模使干膜抗蝕劑感光之后,通過顯影留存抗蝕劑圖案。分別留存于金屬板的兩個面上的抗蝕劑圖案相同,且彼此對位。將所留存的抗蝕劑圖案作為蝕刻掩模,從兩個面蝕刻金屬板。蝕刻后剝離抗蝕劑圖案。
在現(xiàn)有的蝕刻加工中,在蝕刻掩模的形成中使用了光刻工法。在該工法中,需要按照每一個蝕刻圖案制作光掩模,因此難以實(shí)現(xiàn)低成本化。并且,光掩模的維持管理也需要花費(fèi)時間和勞力。而且,由于需要制作光掩模,因此難以縮短交付期。
為了使分別留存于金屬板的兩個面上的抗蝕劑圖案彼此對位,利用金屬板的邊緣。例如,在下述專利文獻(xiàn)1中公開了一種拍攝矩形基板的角部并進(jìn)行圖像處理并將角部的位置作為基準(zhǔn)進(jìn)行網(wǎng)版印刷的技術(shù)。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2014-205286號公報
在被加工板的端面傾斜的情況下,基于從前表面?zhèn)扰臄z的角部的圖像檢測到的頂點(diǎn)與基于從背面?zhèn)扰臄z的角部的圖像檢測到的頂點(diǎn)不一致。此時,若以頂點(diǎn)的位置作為基準(zhǔn)而形成抗蝕劑圖案,則會導(dǎo)致形成于前表面?zhèn)鹊目刮g劑圖案相對于形成于背面?zhèn)鹊目刮g劑圖案產(chǎn)生偏移。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種針對被加工板的兩個面能夠彼此對位后進(jìn)行處理的板處理裝置及板處理方法。
根據(jù)本發(fā)明的一種觀點(diǎn),提供一種板處理裝置,其具有:
打標(biāo)部,對支承于工作臺上的被加工板的朝向該工作臺的面賦予標(biāo)記;及
處理部,對支承于所述工作臺上的被加工板的朝向與所述工作臺相反一側(cè)的面進(jìn)行處理,并且將處理結(jié)果與所述打標(biāo)部賦予給朝向該工作臺的面上的標(biāo)記的位置建立對應(yīng)關(guān)聯(lián),而且,檢測出形成于朝向與所述工作臺相反一側(cè)的面上的標(biāo)記,并基于檢測到的標(biāo)記的位置對朝向與所述工作臺相反一側(cè)的面進(jìn)行處理。
根據(jù)本發(fā)明的另一種觀點(diǎn),提供一種板處理方法,其具有如下工序:
在被加工板的第1面上形成標(biāo)記的工序;
基于形成于所述第1面上的所述標(biāo)記的位置,對所述被加工板的與所述第1面相反一側(cè)的第2面進(jìn)行處理的工序;及
在所述第1面上形成所述標(biāo)記之后,基于所述標(biāo)記的位置,對所述被加工板的所述第1面進(jìn)行處理的工序。
通過形成于被加工板的一個面上的標(biāo)記的位置,能夠使一個面的處理與另一個面的處理對位。
附圖說明
圖1是基于實(shí)施例的板處理裝置的概略圖。
圖2A是支承有被加工板的工作臺的俯視圖,圖2B是圖2A的單點(diǎn)劃線2B-2B處的剖視圖。
圖3A及圖3B是打標(biāo)部的概略剖視圖,圖3C及圖3D分別為形成有標(biāo)記的狀態(tài)的被加工板的剖視圖及仰視圖。
圖4是基于實(shí)施例的板處理方法的流程圖。
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