[發(fā)明專利]顯示面板及其制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910322480.6 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110071124B | 公開(公告)日: | 2020-09-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 余佩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/12 | 分類號(hào): | H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術(shù)*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一種顯示面板,定義有顯示區(qū)和彎折區(qū),其特征在于,所述顯示面板包括:
柔性襯底;
第一無機(jī)絕緣層,設(shè)于所述柔性襯底上;
第一有機(jī)絕緣層,設(shè)于所述彎折區(qū)的所述第一無機(jī)絕緣層上;
第一金屬層,設(shè)于所述第一有機(jī)絕緣層上,其中在所述彎折區(qū)的所述第一金屬層上設(shè)有間隔設(shè)置的第一通孔;
第二有機(jī)絕緣層,設(shè)于所述第一金屬層上,所述第一通孔內(nèi)填充所述第二有機(jī)絕緣層;
第二無機(jī)絕緣層,設(shè)于所述顯示區(qū)的所述第二有機(jī)絕緣層上;
第二金屬層,設(shè)于所述第二無機(jī)絕緣層上,其中在所述彎折區(qū)的所述第二金屬層上設(shè)有間隔設(shè)置的第二通孔;以及
第三有機(jī)絕緣層,設(shè)于所述第二金屬層上,所述第二通孔內(nèi)填充所述第二有機(jī)絕緣層;
其中,所述第二無機(jī)絕緣層用于在無所述第二有機(jī)絕緣層的部分區(qū)域仍然保持所述第一金屬層和所述第二金屬層的相互絕緣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
所述第一通孔、所述第二通孔均呈圓形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
所述第二通孔與所述第一通孔相對(duì)設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
所述第一無機(jī)絕緣層包括
緩沖層,設(shè)于所述柔性襯底上;
阻隔層,設(shè)于所述緩沖層上;
柵極絕緣層,設(shè)于所述阻隔層上;以及
層間絕緣層,設(shè)于所述柵極絕緣層上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述第一金屬層包括多條第一訊號(hào)線,所述第一訊號(hào)線等距離間隔設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述第二金屬層包括多條第二訊號(hào)線,所述第二訊號(hào)線等距離間隔設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述彎折區(qū)的所述第一無機(jī)絕緣層還包括第三通孔,所述第一有機(jī)絕緣層設(shè)于所述第三通孔內(nèi);所述第一有機(jī)絕緣層與所述第一無機(jī)絕緣層的厚度相等。
8.一種如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的顯示面板的制作方法,包括以下步驟:
提供一柔性襯底;
制作第一無機(jī)絕緣層,在所述柔性襯底上通過沉積方式制作所述第一無機(jī)絕緣層;
制作第一有機(jī)絕緣層,在所述彎折區(qū)的所述第一無機(jī)絕緣層上蝕刻制作第三通孔,并通過在所述第三通孔內(nèi)涂布有機(jī)物方式制作所述第一有機(jī)絕緣層;
制作第一金屬層,在所述第一有機(jī)絕緣層上通過沉積和圖形化方式制作所述第一金屬層,所述第一金屬層上設(shè)有間隔設(shè)置的第一通孔;
制作第二有機(jī)絕緣層,在所述第一金屬層上通過涂布和圖形化方式制作所述第二有機(jī)絕緣層,所述第一通孔內(nèi)填充所述第二有機(jī)絕緣層;
制作第二無機(jī)絕緣層,在所述第二有機(jī)絕緣層上通過沉積方式制作所述第二無機(jī)絕緣層,通過蝕刻移除所述彎折區(qū)的所述第二有機(jī)絕緣層;
制作第二金屬層,在所述第二無機(jī)絕緣層上通過沉積和圖形化方式制作所述第二金屬層,所述第二金屬層上設(shè)有間隔設(shè)置的第二通孔;以及
制作第三有機(jī)絕緣層,在所述第二金屬層上通過涂布和圖形化方式制作所述第三有機(jī)絕緣層,所述第二通孔內(nèi)填充所述第二有機(jī)絕緣層;
其中,所述第二無機(jī)絕緣層用于在無所述第二有機(jī)絕緣層的部分區(qū)域仍然保持所述第一金屬層和所述第二金屬層的相互絕緣。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述制作第一無機(jī)絕緣層具體包括以下步驟:
制作緩沖層,在所述柔性襯底上通過沉積方式制作所述緩沖層;
制作阻隔層,在所述緩沖層上通過沉積方式制作所述阻隔層;
制作柵極絕緣層,在所述阻隔層上通過沉積方式制作所述柵極絕緣層;以及
制作層間絕緣層,在所述柵極絕緣層上通過沉積方式制作所述層間絕緣層。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述制作第一金屬層步驟還包括在所述第一金屬層被圖形化方式后通氧氣進(jìn)行處理,用于氧化所述第一金屬層表層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司,未經(jīng)武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910322480.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種陣列基板及其制備方法
- 下一篇:TFT背板及其制備方法、OLED顯示面板
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





