[發(fā)明專利]一種氣霧劑型精密儀器清洗劑及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910320502.5 | 申請(qǐng)日： | 2019-04-20 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111826238A | 公開（公告）日： | 2020-10-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳炳耀;寧智勇;董穎 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 廣東三和化工科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C11D1/66 | 分類號(hào)： | C11D1/66;C11D1/72;C11D3/20;C11D3/22;C11D3/24;C11D3/30;C11D3/32;C11D3/43;C11D11/00;C11D3/60 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 528429 廣東省中*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 氣霧劑 精密儀器 洗劑 及其 制備 方法 | ||
1.一種氣霧劑型精密儀器清洗劑，其特征在于，各組分按重量份配比包括：
環(huán)保溶劑 75.0～90.0份,
表面活性劑 0.01～1.0份,
助溶劑 1.0～20.0份,
抗靜電劑 0.1～0.5份,
厭惡劑 0.01～0.5份,
推進(jìn)劑 5.0～10.0份。
2.如權(quán)利要求1所述的一種氣霧劑型精密儀器清洗劑，其特征在于，所述的環(huán)保溶劑為HCFC-225五氟二氯丙烷、1,1,2,2,3,3,4-七氟環(huán)戊烷、141b一氟二氯乙烷中的至少一種。
3.如權(quán)利要求1所述的一種氣霧劑型精密儀器清洗劑，其特征在于，所述的表面活性劑為脂肪醇聚氧乙烯醚（AEO）、非離子型氟碳表面活性劑中的至少一種。
4.如權(quán)利要求1所述的一種氣霧劑型精密儀器清洗劑，其特征在于，所述的助溶劑為叔戊醇、異丙醇、異戊二醇、異己二醇、二丙二醇叔丁醚中的至少一種。
5.如權(quán)利要求1所述的一種氣霧劑型精密儀器清洗劑，其特征在于，所述的抗靜電劑為巴斯夫Basionics LQ01、季銨鹽中的至少一種。
6.如權(quán)利要求1所述的厭惡劑為反式-8-甲基-N-香草基-6-壬烯酰胺（辣椒堿）、苯甲酸地那銨（苦精）、丹寧酸、柚苷、檸檬苦素、小檗堿中的至少一種。
7.如權(quán)利要求1所述的一種氣霧劑型精密儀器清洗劑，其特征在于，所述的推進(jìn)劑為CO2、HFC-134a、HFO-1234ze、HFO-1234yf中的至少一種。
8.如權(quán)利要求1所述的一種氣霧劑型精密儀器清洗劑的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
1) 劑料的制備：按重量份配比，將75～90份環(huán)保溶劑加入到容器中，緩慢加入表面活性劑和助溶劑，以100～200r/min攪拌5min，過濾備用；
2) 灌裝：按一定充填率將劑料灌裝至氣霧罐中，加入閥門后進(jìn)行封口、充填拋射劑，過水浴后裝上按頭、蓋子，即制得精密儀器帶電清洗劑。
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