[發明專利]有源的offner展寬器有效
| 申請號: | 201910318239.6 | 申請日: | 2019-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN110071411B | 公開(公告)日: | 2020-09-15 |
| 發明(設計)人: | 劉星延;王乘;冷雨欣;李儒新 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號: | H01S3/00 | 分類號: | H01S3/00;H01S5/00;G02B27/42;G02B17/06;G02F1/39 |
| 代理公司: | 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 張寧展 |
| 地址: | 201800 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有源 offner 展寬 | ||
1.一種有源的offner展寬器,包括由凹面反射鏡(1)、凸面反射鏡(2)、和光柵(3)構成的offner展寬器(001),其特征在于,還包括由相互平行的分束鏡(5)和反射鏡(6),及延時調整系統(7)和非線性晶體(8)構成的光學參量放大系統(002),以及屋脊反射鏡(4);
入射光(01)射入所述的offner展寬器(001)引入空間啁啾后,射入所述的非線性晶體(8);
泵浦光(02)射入所述的分束鏡(5),經該分束鏡(5)分束后,其透射光經所述的反射鏡(6)反射后,由延時調整系統(7)調整延時以及入射角度后,入射到所述的非線性晶體(8);
在延時調整系統(7)中調整泵浦光的延時,使泵浦光在非線性晶體(8)中與入射光發生非線性反應時,在時間域內完全包含入射光;同時調整泵浦光入射到非線性晶體的角度,令泵浦光和入射光的夾角滿足其在非線性晶體中發生反應所需的非共線角,非共線角由非線性晶體的種類以及入射光和泵浦光的光譜帶寬所決定;
空間啁啾的入射光,其需要放大的長波波段和短波波段分別與兩束泵浦光在非線性晶體(8)中發生光參量放大效應,入射光的能量增大,隨后入射到所述的屋脊反射鏡(4),經該屋脊反射鏡(4)反射后,再次進入所述的offner展寬器(001)補償空間啁啾。
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