[發明專利]一種化學反應釜智能全自動清潔高壓射流6D裝置

在審

• 申請號: 201910314965.0
• 申請日: 2019-04-18
• 公開（公告）號: CN110076161A
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發明（設計）人: 王小君;鄭俊光;葉志浩;朱亞
• 申請（專利權）人: 珠海達明科技有限公司
• 主分類號: B08B9/093
• 分類號: B08B9/093;B08B3/12
• 代理公司: 廣州市紅荔專利代理有限公司 44214
• 代理人: 王賢義

1.一種化學反應釜智能全自動清潔高壓射流6D裝置，其特征在于：其包括固定支架（1）、旋轉噴頭（2）、電源模塊（3）、高壓水管（4）、高壓氣管（5）、超聲波發射器（8）及超聲波信號線（9），所述固定支架（1）中設置有伸縮機構（6）、氣管水管旋轉收集裝置（7），所述伸縮機構（6）位于所述氣管水管旋轉收集裝置（7）的下方，所述旋轉噴頭（2）設置在所述伸縮機構（6）的下端，所述高壓水管（4）的上端、所述高壓氣管（5）的上端及所述超聲波信號線（9）的上端均配合設置在所述氣管水管旋轉收集裝置（7）上，所述高壓水管（4）及所述高壓氣管（5）均設置在所述伸縮機構（6）的外壁上，所述高壓水管（4）的下端及所述高壓氣管（5）的下端連接在所述旋轉噴頭（2）上，所述超聲波信號線（9）的下端連接在所述超聲波發射器（8）上，所述旋轉噴頭（2）、所述超聲波發射器（8）、所述超聲波信號線（9）及所述伸縮機構（6）均與所述電源模塊（3）電連接。

2.根據權利要求1所述的一種化學反應釜智能全自動清潔高壓射流6D裝置，其特征在于：所述伸縮機構（6）包括伸縮氣缸（61）及伸縮復位結構（62），所述伸縮復位結構（62）中配合設置有復位彈簧（63），所述伸縮復位結構（62）的下端固定配合有噴頭支架（64），所述伸縮復位結構（62）套接在所述伸縮氣缸（61）上，所述伸縮氣缸（61）的下端與所述噴頭支架（64）的下端相固定配合，所述旋轉噴頭（2）及所述超聲波發射器（8）均設置在所述噴頭支架（64）的下端。

3.根據權利要求1所述的一種化學反應釜智能全自動清潔高壓射流6D裝置，其特征在于：所述氣管水管旋轉收集裝置（7）包括旋轉電機（71）、聯軸器（72）及空心卷軸（73），所述空心卷軸（73）設置在所述固定支架（1）上，所述聯軸器（72）的一端配合設置在所述固定支架（1）上，所述聯軸器（72）的另一端配合設置在所述旋轉電機（71）上，所述空心卷軸（73）上轉動配合有水管卷盤（74）及氣管卷盤（75），所述高壓水管（4）配合設置在所述水管卷盤（74）上，所述高壓氣管（5）配合設置在所述氣管卷盤（75）上。

4.根據權利要求3所述的一種化學反應釜智能全自動清潔高壓射流6D裝置，其特征在于：所述空心卷軸（73）上還轉動配合有信號線卷盤（76），所述超聲波信號線（9）配合設置在所述信號線卷盤（76）上。

5.根據權利要求1所述的一種化學反應釜智能全自動清潔高壓射流6D裝置，其特征在于：所述電源模塊（3）設置在電氣控制箱（10）中，所述電氣控制箱（10）中還設置有中間繼電器（13）、電磁閥、智能控制儀器（12）及高度設定控制儀（16），所述電氣控制箱（10）上設置有觸摸屏（15），所述觸摸屏（15）、所述中間繼電器（13）、所述電磁閥、所述智能控制儀器（12）及所述高度設定控制儀（16）均與所述電源模塊（3）電連接。

6.根據權利要求1所述的一種化學反應釜智能全自動清潔高壓射流6D裝置，其特征在于：所述旋轉噴頭（2）為6D旋轉噴頭。

7.根據權利要求2所述的一種化學反應釜智能全自動清潔高壓射流6D裝置，其特征在于：所述伸縮復位結構（62）與所述固定支架（1）之間設置有若干個耐磨環（11）。