[發(fā)明專利]一種激光管帽鍍膜遮擋治具在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910314827.2 | 申請日: | 2019-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN111826607A | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李頂雄;周強;胡磊;鄒朋 | 申請(專利權(quán))人: | 天通(嘉興)新材料有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司: | 上海昱澤專利代理事務所(普通合伙) 31341 | 代理人: | 孟波 |
| 地址: | 314400*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 激光管 鍍膜 遮擋 | ||
本發(fā)明公開了一種激光管帽鍍膜遮擋治具,遮擋治具包括遮擋板、使用孔和底板,底板中部設(shè)有凹槽,凹槽貫穿底板上下表面,管帽固定在凹槽內(nèi),使用孔設(shè)置在遮擋板中部并貫穿遮擋板上下表面,使用孔的下端伸入至管帽內(nèi)部,遮擋板設(shè)置在底板上方,遮擋板與底板連接,遮擋板包括擋板和遮擋區(qū),擋板設(shè)置在遮擋區(qū)上端,擋板與遮擋區(qū)連接,遮擋區(qū)的底部與使用孔的底部處于同一水平線上。本發(fā)明通過對遮擋板的結(jié)構(gòu)重新設(shè)計,在裝配后可以直接將管帽內(nèi)壁不鍍膜區(qū)域遮擋,不會在管帽內(nèi)壁上留有多余的膜料,從而不會對管帽的效果和性能造成影響;遮擋治具的材質(zhì)使用鈦合金材料,其強度高、耐蝕性好、耐熱性高,保養(yǎng)簡單且價格低廉,節(jié)約了生產(chǎn)成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種激光管帽鍍膜遮擋治具。
背景技術(shù)
管帽產(chǎn)品用于對半導體激光光源發(fā)射出的光進行聚焦,管帽實際上是一種球透鏡,為了減小光能量在光學器件表面的損失,需要在管帽表面鍍制一層光學減反射薄膜。
現(xiàn)有技術(shù)在給此類激光管帽鍍膜時,均采用平面式的遮擋工藝,此類遮擋治具在鍍膜時產(chǎn)品內(nèi)壁上會有多余的膜料,影響管帽組裝后的效果和性能,如說明書附圖中圖1和圖2。且現(xiàn)有市場在制作此類治具時,均采用銅合金材料制成,此類材料材質(zhì)軟,在經(jīng)過長時間使用后會造成變形,尺寸偏差、保養(yǎng)成本高等弊端。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題,本發(fā)明提供一種激光管帽鍍膜遮擋治具,通過對遮擋板的結(jié)構(gòu)重新設(shè)計,在裝配后可以直接將管帽內(nèi)壁不鍍膜區(qū)域遮擋,不會在管帽內(nèi)壁上留有多余的膜料,從而不會對管帽的效果和性能造成影響;遮擋治具的材質(zhì)使用鈦合金材料,其強度高、耐蝕性好、耐熱性高,保養(yǎng)簡單且價格低廉,節(jié)約了生產(chǎn)成本。
本發(fā)明中的一種激光管帽鍍膜遮擋治具,所述遮擋治具包括遮擋板、使用孔和底板,所述底板中部設(shè)有凹槽,所述凹槽貫穿底板上下表面,所述管帽固定在凹槽內(nèi),所述使用孔設(shè)置在遮擋板中部并貫穿遮擋板上下表面,所述使用孔的下端伸入至管帽內(nèi)部,所述遮擋板設(shè)置在底板上方,所述遮擋板與底板連接,所述遮擋板包括擋板和遮擋區(qū),所述擋板設(shè)置在遮擋區(qū)上端,所述擋板與遮擋區(qū)連接,所述遮擋區(qū)的底部與使用孔的底部處于同一水平線上。
上述方案中,所述使用孔包括漏斗部分和柱體部分,所述漏斗部分設(shè)置在柱體部分上端,所述漏斗部分的底部為中空的圓形,所述漏斗部分的底部與柱體部分上端連接,所述柱體部分的中部至底部伸入管帽內(nèi)部。
上述方案中,所述擋板包圍漏斗部分的外壁及上半柱體部分的外壁,所述遮擋區(qū)包圍下半柱體部分的外壁。
上述方案中,所述遮擋治具的材質(zhì)為鈦合金。
本發(fā)明的優(yōu)點和有益效果在于:本發(fā)明提供一種激光管帽鍍膜遮擋治具,通過對遮擋板的結(jié)構(gòu)重新設(shè)計,在鍍膜時,有效避開了鍍膜鍍至管帽內(nèi)壁上,從而不會對管帽的效果和性能造成影響;遮擋治具的材質(zhì)使用鈦合金材料,其強度高、耐蝕性好、耐熱性高,保養(yǎng)簡單且價格低廉,節(jié)約了生產(chǎn)成本。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)設(shè)計原理圖。
圖2為圖1中管帽的結(jié)構(gòu)原理圖。
圖3為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為圖3中遮擋板和使用孔的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中:1、遮擋板 11、擋板 12、遮擋區(qū) 2、使用孔 21、漏斗部分
22、柱體部分 3、底板 31、凹槽 4、管帽 41、管帽內(nèi)壁
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于天通(嘉興)新材料有限公司,未經(jīng)天通(嘉興)新材料有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910314827.2/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





