[發(fā)明專利]一種基于超振蕩透鏡的超分辨缺陷檢測(cè)裝置及檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910311312.7 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110031478B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-12-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅先剛;馬曉亮;李雄;蒲明博;鹿辛踐 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N21/95 | 分類號(hào): | G01N21/95;G01N21/958;G01N21/01 |
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| 地址: | 610209 *** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 振蕩 透鏡 分辨 缺陷 檢測(cè) 裝置 方法 | ||
1.一種基于超振蕩透鏡的超分辨缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:包括上位機(jī)(1)、物鏡驅(qū)動(dòng)器(2)、樣品臺(tái)驅(qū)動(dòng)器(3)、工件臺(tái)(4)、真空吸附裝置(5)、基片(6)、物鏡(7)、PI壓電電機(jī)(8)、激光光源(9)、擴(kuò)束鏡(10)、準(zhǔn)直透鏡(11)、超振蕩透鏡(12)、顯微鏡鏡身(13)、CCD(14)和半透半反透鏡(15),其中,CCD(14)、顯微鏡鏡身(13)、超振蕩透鏡(12)、半透半反透鏡(15)、PI壓電電機(jī)(8)、物鏡(7)從上到下依次連接;激光光源(9)發(fā)射波長(zhǎng)為532nm的激光,依次經(jīng)過(guò)擴(kuò)束鏡(10)和準(zhǔn)直透鏡(11)進(jìn)行準(zhǔn)直后照射到半透半反透鏡(15),激光光束經(jīng)反射之后到達(dá)放大倍數(shù)為50倍的物鏡(7)照射到吸附于真空吸附裝置(5)的基片(6),真空吸附裝置(5)固定于工件臺(tái)(4)上,樣品臺(tái)驅(qū)動(dòng)器(3)分別與上位機(jī)(1)、工件臺(tái)(4)連接,物鏡驅(qū)動(dòng)器(2)分別與上位機(jī)(1)、PI壓電電機(jī)(8)連接,物鏡(7)被PI壓電電機(jī)(8)驅(qū)動(dòng),基片(6)反射回來(lái)的光束再通過(guò)半透半反透鏡(15),再經(jīng)過(guò)特殊優(yōu)化設(shè)計(jì)的超振蕩透鏡(12),最終通過(guò)顯微鏡鏡身(13)到達(dá)CCD(14)完成圖像的采集,然后傳輸?shù)缴衔粰C(jī)(1)中,其中,特殊優(yōu)化設(shè)計(jì)的超振蕩透鏡(12)是在特定數(shù)值孔徑透鏡下,根據(jù)標(biāo)量菲涅爾衍射積分公式,相位型器件在焦面位置的衍射光場(chǎng)分布由公式描述,其中f表示超振蕩透鏡的焦距,R表示入瞳半徑,為相位調(diào)制函數(shù),λ為入射光的波長(zhǎng),J0為0階貝塞爾函數(shù),r為出瞳徑向坐標(biāo),ρ為焦面徑向坐標(biāo),I(ρ)表示的是ρ點(diǎn)的光強(qiáng),i指的是光波復(fù)振幅的虛部單位,該公式作為逆向設(shè)計(jì)時(shí)的優(yōu)化函數(shù),利用旁瓣強(qiáng)度、局部視場(chǎng)大小和超振蕩透鏡結(jié)構(gòu)分布參數(shù)作為約束條件,最后采用粒子群優(yōu)化算法設(shè)計(jì)加工所需的二元相位型超振蕩透鏡。
2.一種基于超振蕩透鏡的超分辨缺陷檢測(cè)方法,利用權(quán)利要求1所述的基于超振蕩透鏡的超分辨缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:所述方法包括:
步驟S1:激光光源(9)將激光光束射出,經(jīng)擴(kuò)束鏡(10)和準(zhǔn)直透鏡(11)到達(dá)半透半反透鏡(15),經(jīng)過(guò)半透半反透鏡(15)和物鏡(7)到達(dá)基片(6)表面,基片(6)表面反射回來(lái)的光再次通過(guò)半透半反透鏡(15),透射到經(jīng)過(guò)設(shè)計(jì)好的具有特殊優(yōu)化設(shè)計(jì)的超振蕩透鏡(12),最后利用CCD實(shí)時(shí)采集得到基片的數(shù)字圖像;
步驟S2:通過(guò)上位機(jī)程序控制直線電機(jī)和PI壓電電機(jī)(8),每隔一段時(shí)間利用CCD采集圖像,然后利用上位機(jī)編寫的程序完成對(duì)于圖像的讀取和處理,選取合適的感興趣區(qū)域,即ROI區(qū)域,利用圖像處理算法將選取的ROI區(qū)域中的圖像信息進(jìn)行計(jì)算,計(jì)算出采集到的每幅圖像ROI區(qū)域的信息熵,進(jìn)行比較,得到最合適的對(duì)焦位置;
步驟S3:通過(guò)上位機(jī)(1)驅(qū)動(dòng)物鏡驅(qū)動(dòng)器(2)控制PI壓電電機(jī)(8)進(jìn)行運(yùn)動(dòng),包括X\Y和旋轉(zhuǎn)方向的運(yùn)動(dòng),利用CCD收集采集到的圖像,完成圖像識(shí)別和輪廓提取,識(shí)別出缺陷的信息;
步驟S4:對(duì)基片表面的信息進(jìn)行綜合處理,比較數(shù)據(jù)庫(kù)中的缺陷信息,給基片表面的缺陷信息進(jìn)行分類整理;
步驟S5:生成缺陷檢測(cè)結(jié)果,包括缺陷的位置、大小和分類,生成缺陷檢測(cè)地圖。
3.如權(quán)利要求2所述的基于超振蕩透鏡的超分辨缺陷檢測(cè)方法,其特征在于:通過(guò)判斷CCD采集得到的圖像ROI區(qū)域的圖像清晰度,來(lái)判斷是否到達(dá)最佳對(duì)焦位置。
4.如權(quán)利要求2所述的基于超振蕩透鏡的超分辨缺陷檢測(cè)方法,其特征在于:分為粗對(duì)焦和精對(duì)焦兩個(gè)過(guò)程,在尋找最佳的對(duì)焦位置過(guò)程中,通過(guò)不斷減小PI電機(jī)在移動(dòng)過(guò)程中的步長(zhǎng),不斷迭代逼近最佳的對(duì)焦位置。
5.如權(quán)利要求2所述的基于超振蕩透鏡的超分辨缺陷檢測(cè)方法,其特征在于:利用缺陷區(qū)域的圖像信息,與設(shè)計(jì)好的數(shù)據(jù)庫(kù)中的各種缺陷進(jìn)行比較,利用機(jī)器學(xué)習(xí)的方法將測(cè)得的缺陷進(jìn)行歸類分析,最后完成對(duì)于缺陷信息的統(tǒng)計(jì)。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





