[發(fā)明專利]一種激光清洗能量密度閾值的控制方法

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• 申請日: 2019-04-18
• 公開（公告）號: CN111822443A
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李文戈
• 申請（專利權(quán)）人: 揚(yáng)州洛天依智能裝備有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;B08B13/00
• 代理公司: 北京科家知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11427
• 代理人: 艾秀麗

本發(fā)明公開了激光清洗技術(shù)領(lǐng)域的一種激光清洗能量密度閾值的控制方法,通過外接電源控制開關(guān)所有電器，開啟激光器，激光器所發(fā)出的激光經(jīng)過聚光鏡作用于清洗材料基體的表面,然后通過探測器可對激光等離子體進(jìn)行探測，通過微型處理器進(jìn)行處理計(jì)算；然后重復(fù)操作，得到多組激光能量值與峰值電壓值，并通過微型處理器進(jìn)行處理計(jì)算，即可得到激光清洗能量密度閾值，從而進(jìn)行控制；通過探測器可隨時快速的對激光能量進(jìn)行探測，然后通過與微型處理器的配合，可快速的探測激光能量值和探測激光等離子體的峰值電壓值的關(guān)系計(jì)算激光清洗清洗閾值和激光損傷閾值，避免了需要多次重復(fù)試驗(yàn)，縮減了試驗(yàn)的時間與成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及激光清洗技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種激光清洗能量密度閾值的控制方法。

背景技術(shù)

在進(jìn)行激光清洗時，當(dāng)激光能量過高時，容易對需要清洗的材料造成一定程度的破壞，而當(dāng)激光能量過底時，又無法有效的對材料進(jìn)行清洗，雖然現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)提出了激光清洗能量密度閾值的檢測方法，但均操作復(fù)雜，且無法有效精準(zhǔn)的對激光能量進(jìn)行控制；為此我們提出一種激光清洗能量密度閾值的控制方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種激光清洗能量密度閾值的控制方法，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種激光清洗能量密度閾值的控制方法：包括激光器、聚光鏡、探測器、清洗材料基體、位移傳感器、微型處理器、光譜儀、濾波鏡。

一種激光清洗能量密度閾值的控制方法，包括如下步驟，

S1：通過外接電源控制開關(guān)所有電器，開啟激光器，激光器所發(fā)出的激光經(jīng)過聚光鏡作用于清洗材料基體的表面；

S2：而激光在經(jīng)歷S1步驟后會產(chǎn)生激光等離子體，然后通過探測器可對激光等離子體進(jìn)行探測，

S3：而激光等離子體在經(jīng)過光譜儀與濾波鏡后，會進(jìn)入到微型處理器中，通過微型處理器進(jìn)行處理計(jì)算；

S4：然后重復(fù)操作S1到S3步驟多次，得到多組激光能量值與峰值電壓值，并通過微型處理器進(jìn)行處理計(jì)算，即可得到激光清洗能量密度閾值，從而進(jìn)行控制。

進(jìn)一步的，所述步驟S1到S3需重復(fù)操作五次以上。

進(jìn)一步的，所述步驟S1中的預(yù)設(shè)清洗時間為1秒至1.25秒。

進(jìn)一步的，所述步驟S4中的激光能量值呈由小向大，等范圍改變。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：

該激光清洗能量密度閾值的控制方法，操作簡單，使用方便，通過探測器可隨時快速的對激光能量進(jìn)行探測，然后通過與微型處理器的配合，可快速的探測激光能量值和探測激光等離子體的峰值電壓值的關(guān)系計(jì)算激光清洗清洗閾值和激光損傷閾值，避免了需要多次重復(fù)試驗(yàn)，縮減了試驗(yàn)的時間與成本。

附圖說明

圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1、激光器；2、聚光鏡；3、探測器；4、清洗材料基體；、5、位移傳感器；6、微型處理器；7、光譜儀；8、濾波鏡。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

請參閱圖1，本發(fā)明提供一種技術(shù)方案：一種激光清洗能量密度閾值的控制方法：包括激光器1、聚光鏡2、探測器3、清洗材料基體4、位移傳感器5、微型處理器6、光譜儀7、濾波鏡8。

一種激光清洗能量密度閾值的控制方法，包括如下步驟，