[發(fā)明專利]牙科綜合治療臺水路消毒裝置及其消毒方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910307127.0
• 申請日: 2019-04-17
• 公開（公告）號: CN109867335A
• 公開（公告）日: 2019-06-11
• 發(fā)明（設計）人: 朱勝浦;李瀟瀟
• 申請（專利權）人: 無錫迅朗聯(lián)大機能水技術研究院有限公司
• 主分類號: C02F1/467
• 分類號: C02F1/467;C02F1/461;C02F9/02;A61G15/14
• 代理公司: 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙) 32260
• 代理人: 王闖;葛莉華

本發(fā)明公開了牙科綜合治療臺水路消毒裝置及其消毒方法，包括箱體，所述箱體內設有內腔和設于所述內腔上方的箱蓋，所述內腔由隔板分隔成增氧腔和電解腔，所述隔板與所述箱蓋之間留有間距，所述箱體的上部設有與所述增氧腔相連通的進水口及與所述電解腔相連通的出水口，所述增氧腔的底部設有曝氣器，所述電解腔的腔壁設有電解器和電子液位計。本發(fā)明能夠以較低成本解決牙科綜合治療臺水路的出水污染問題。

技術領域

本發(fā)明涉及牙科綜合治療臺水路的技術領域，具體涉及牙科綜合治療臺水路消毒裝置及其消毒方法。

背景技術

牙科綜合治療臺水路(dental unit waterline，DUWL)，是牙科綜合治療臺(dental chair unit)的一個重要組成部分，其主要功能是提供水源，在治療過程中為手機和三用槍等治療設備提供治療用水，以起冷卻和沖洗作用。

DUWL由狹窄而細長的管道組成，易被細菌污染并在其中定植、形成生物膜。在治療過程中，定植于DUWL中的菌落經常會被水流沖刷下來，這些細菌可隨水流進入患者口腔，也可通過由超聲潔牙機、高速渦輪手機產生的氣溶膠被患者或牙科醫(yī)務人員吸入呼吸道，從而導致感染發(fā)生；因此，DUWL污染被認為是引起牙科交叉感染的重要途徑之一。

1963年，英國牙醫(yī)Blake首次對DUWL污染進行了報道，發(fā)現(xiàn)DUWL中含有大量細菌。研究發(fā)現(xiàn)，新的口腔綜合治療臺與供水管道連接一周后，供水管道的細菌濃度即可達到2×10⁵CFU/mL，長期使用后，細菌濃度最高可達1.0×10⁶CFU/mL。

近年來，“微酸性電解水用于口腔綜合治療臺水路消毒的效果觀察”的相關研究，驗證了微酸性電解水用于DUWLs污染控制的可行性，并取得了顯著的效果。但是，微酸性電解水的產生過程需要鹽酸或氯化鈉作為耗材，且每臺牙椅單位時間用水量少，連續(xù)式產生微酸性電解水的方式會造成設備成本較高，連續(xù)長時間使用還有可能造成牙椅內部管路的腐蝕。

發(fā)明內容

鑒于背景技術的不足，本發(fā)明提供了能夠以較低成本、無耗材的方式解決牙科綜合治療臺水路的出水污染問題的牙科綜合治療臺水路消毒裝置。

為解決以上技術問題，本發(fā)明提供了如下技術方案：

牙科綜合治療臺水路消毒裝置，包括箱體，所述箱體內設有內腔和設于所述內腔上方的箱蓋，所述內腔由隔板分隔成增氧腔和電解腔，所述隔板與所述箱蓋之間留有間距，所述箱體的上部設有與所述增氧腔相連通的進水口及與所述電解腔相連通的出水口，所述增氧腔的底部設有曝氣器，所述電解腔的腔壁設有電解器和電子液位計。

所述箱蓋上設有與所述電解器電連接的電源開關，所述電源開關與可編程控制器相連接。

所述電解器為兩平行設置的鈦基鍍鉑電極。

兩所述鈦基鍍鉑電極的間距為5mm。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比所具有的有益效果是：本發(fā)明能夠有效對牙科綜合治療臺水路的出水進行消毒處理，且結構簡單，成本較傳統(tǒng)的連續(xù)式電解設備低。

鑒于背景技術的不足，本發(fā)明又提供了對牙科綜合治療臺的供水進行消毒的牙科綜合治療臺水路的消毒方法。

為解決以上技術問題，本發(fā)明提供了如下技術方案：

牙科綜合治療臺水路的消毒方法，包括權利要求1所述的牙科綜合治療臺水路消毒裝置，消毒步驟如下：

(1)對待通入所述牙科綜合治療臺水路消毒裝置中的自來水進行軟化處理，并使軟化后的自來水硬度在60mg/L以下；

(2)將軟化后的自來水從所述進水口通入所述增氧腔中，所述曝氣器工作并使增氧腔中的增氧量控制在3-5L/min；