[發(fā)明專利]一種超聲波測距裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910302273.4
• 申請日: 2019-04-16
• 公開（公告）號: CN110081951A
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宋壽鵬;吳華清;陳昊;邱越;苗永紅
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇大學(xué)
• 主分類號: G01F23/296
• 分類號: G01F23/296
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明提供了一種超聲波測距裝置，包括：管體，管體的兩端貫通；第一L型密封圈、第二L型密封圈，同軸安裝于管體內(nèi)；超聲波探頭，安裝于第一L型密封圈和第二L型密封圈之間；探頭保護(hù)圈，為圓環(huán)狀，同軸固定于管體的內(nèi)壁，用于固定超聲波探頭，探頭保護(hù)圈、第二L型密封圈和管體的內(nèi)壁之間形成密閉空腔；反射板，與第二L型密封圈固定連接；及擋環(huán)，安裝于管體的一端內(nèi)壁上；其中，反射板和第二L型密封圈能夠沿著管體的軸向運(yùn)動，擋環(huán)用于限制反射板和第二L型密封圈運(yùn)動至管體外。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，實(shí)用可靠，方便快捷，可以對渾濁液體中的液位進(jìn)行檢測。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及測距裝置，尤其涉及一種超聲波測距裝置。

背景技術(shù)

由于超聲波指向性強(qiáng)，能量消耗緩慢，在介質(zhì)中傳播的距離較遠(yuǎn)，因而超聲波經(jīng)常用于距離的測量，利用超聲波測距儀檢測往往比較迅速、方便。

目前工程人員也需要經(jīng)常在高聲波衰減、高濃度、渾濁液體中進(jìn)行測距，例如在建筑工程中水泥灌注時(shí)，需要進(jìn)行灌注位置的測量。然而在高濃度渾濁液體中，超聲波產(chǎn)生困難，超聲波衰減系數(shù)大，不能夠有效產(chǎn)生和接收超聲波，例如現(xiàn)有技術(shù)公開了一種基于超聲波的便攜式測距儀，但是該測距儀在渾濁液體中測距時(shí)，存在著無法有效產(chǎn)生超聲波，以及超聲波傳輸距離近的問題。

因此，現(xiàn)有技術(shù)中普通的超聲波測距裝置不適用于在高聲波衰減、高濃度、渾濁液體中進(jìn)行測距，如何能夠在高聲波衰減、高濃度、渾濁液體中有效產(chǎn)生和接收到超聲波，一直是超聲波在這類液體中測距的難題。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)中存在不足，本發(fā)明提供了一種超聲波測距裝置，能夠在高聲波衰減、高濃度、渾濁液體中進(jìn)行輔助測距。

本發(fā)明是通過以下技術(shù)手段實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的的。

一種超聲波測距裝置，包括：

管體，所述管體的兩端貫通；

第一L型密封圈，同軸安裝于所述管體內(nèi)；

第二L型密封圈，同軸位于所述管體內(nèi)，所述第一L型密封圈和所述第二L型密封圈的工作面相對；

超聲波探頭，安裝于所述第一L型密封圈和第二L型密封圈之間；

探頭保護(hù)圈，為圓環(huán)狀，同軸固定于所述管體的內(nèi)壁，用于固定所述超聲波探頭，所述探頭保護(hù)圈、所述第二L型密封圈和所述管體的內(nèi)壁之間形成密閉空腔；

反射板，與所述第二L型密封圈固定連接；及

擋環(huán)，安裝于所述管體的一端內(nèi)壁上；

其中，所述反射板和所述第二L型密封圈能夠沿著所述管體的軸向運(yùn)動，所述擋環(huán)用于限制所述反射板和所述第二L型密封圈運(yùn)動至所述管體外。

優(yōu)選地，所述探頭保護(hù)圈包裹于所述超聲波探頭的外側(cè)，所述探頭保護(hù)圈和所述超聲波探頭通過若干所述第一固定螺釘固定于所述管體的內(nèi)壁上。

優(yōu)選地，還包括第一密封圈固定裝置，所述第一密封圈固定裝置包括中空柱狀體和圓環(huán)面，所述圓環(huán)面位于所述中空柱狀體的一端，所述第一密封圈固定裝置的截面為L型，所述中空柱狀體位于所述超聲波探頭與所述探頭保護(hù)圈的內(nèi)壁之間，所述圓環(huán)面位于所述第一L型密封圈上，將所述第一L型密封圈壓緊于所述探頭保護(hù)圈上。

優(yōu)選地，所述探頭保護(hù)圈上沿軸向設(shè)有若干通孔，若干所述通孔位于所述第一L型密封圈與所述管體的內(nèi)壁之間。

優(yōu)選地，還包括第二密封圈固定裝置，所述第二密封圈固定裝置位于所述管體的內(nèi)壁上，所述第二L型密封圈和所述反射板均固定于所述第二密封圈固定裝置上，所述擋環(huán)能夠限制所述第二密封圈固定裝置運(yùn)動出所述管體外。

優(yōu)選地，還包括頂蓋，所述頂蓋位于所述管體的另一端，所述頂蓋上設(shè)有導(dǎo)線孔。