[發(fā)明專利]基于全息超表面的共形表面波天線有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910301006.5 | 申請日: | 2019-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN110011069B | 公開(公告)日: | 2021-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊銳;解萌 | 申請(專利權(quán))人: | 西安電子科技大學(xué) |
| 主分類號: | H01Q19/02 | 分類號: | H01Q19/02;H01Q15/00;H01Q9/30;H01Q1/50 |
| 代理公司: | 陜西電子工業(yè)專利中心 61205 | 代理人: | 陳宏社;王品華 |
| 地址: | 710071*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 全息 表面 表面波天線 | ||
1.一種基于全息超表面的共形表面波天線,其特征在于:包括全息阻抗表面(1)和單極子饋源(2),其中:
所述全息阻抗表面(1),包括m×n個(gè)周期性排布的阻抗表面單元(11),m≥40,n≥40,所述阻抗表面單元(11)包括介質(zhì)板(111)、印制在介質(zhì)板(111)上表面中心位置的方形金屬貼片(112)和下表面的金屬地板(113);所述全息阻抗表面(1)的中間部分為圓柱狀曲面,該圓柱狀曲面曲率變化方向的兩端分別連接有平面結(jié)構(gòu),且兩個(gè)平面結(jié)構(gòu)共面,所有阻抗表面單元(11)的表面阻抗基于全息原理的干涉圖分布,所述方形金屬貼片(112)的尺寸通過其所處位置的表面阻抗確定,所有方形金屬貼片(112)形成明暗相間的V字形條紋;
所述單極子饋源(2)固定在全息阻抗表面(1)中任意一個(gè)平面結(jié)構(gòu)上;
所述全息阻抗表面(1)通過將單極子饋源(2)產(chǎn)生的圓柱形表面波調(diào)制成平整的平面波前,實(shí)現(xiàn)在該全息阻抗表面(1)端射方向上的高定向性波束;
所述基于全息原理的干涉圖分布,其對應(yīng)的參考波為單極子饋源(2)產(chǎn)生的圓柱形表面波,對應(yīng)的目標(biāo)波為全息阻抗表面(1)端射方向上的輻射平面波,其中:
圓柱形表面波的電場ψref的表達(dá)式為:
輻射平面波的電場ψobj的表達(dá)式為:
其中,k0為自由空間波數(shù),n為全息阻抗表面的平均表面折射率,r1為全息阻抗表面上任意一點(diǎn)沿表面與單極子饋源的距離,為全息阻抗表面上任意一點(diǎn)相對于單極子饋源所在位置的位置矢量,為輻射平面波的波矢,其中:
在平面結(jié)構(gòu)部分,沿著平面直角坐標(biāo)系的x軸正方向,即則平面結(jié)構(gòu)上各阻抗表面單元的表面阻抗Zs基于全息原理的干涉圖分布表達(dá)式
為:Zs=j(luò)[X+Mcos(k0nr1-ktx)]
在圓柱狀曲面結(jié)構(gòu)部分,沿著圓柱狀曲面的圓周方向,在柱坐標(biāo)系中,輻射平面波的波矢表示為則在圓柱狀曲面結(jié)構(gòu)上各阻抗表面單元的表面阻抗Zs基于全息原理的干涉圖分布表達(dá)式為:
Zs=j(luò)[X+Mcos(k0nr1-kρRφ)]
其中,kt為輻射平面波沿x方向的切向波數(shù),R為圓柱狀曲面的曲率半徑,φ表示圓柱狀曲面圓周上任意一點(diǎn)對應(yīng)的圓心角,kρ為輻射平面波沿著圓柱面圓周方向的波數(shù),X和M分別表示平均表面阻抗的大小和調(diào)制深度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于全息超表面的共形表面波天線,其特征在于:所述阻抗表面單元(11),其中的方形金屬貼片(112)的中心位于介質(zhì)板(111)的中心法線上,且方形金屬貼片(112)兩條對角線與所在介質(zhì)板(111)表面的兩條對角線重合,該阻抗表面單元(11)的表面阻抗Zs與方形金屬貼片(112)的尺寸的關(guān)系式為:
Zs=-69.9458g3+248.9734g2-321.6618g+303.6017
其中,g為介質(zhì)板的邊長與方形金屬貼片邊長之間的差。
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