[發(fā)明專利]基于時間反演產(chǎn)生任意方向貝塞爾波束的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910292835.1
• 申請日: 2019-04-11
• 公開（公告）號: CN110011063B
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發(fā)明（設計）人: 丁帥;董惠斌
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: H01Q15/02
• 分類號: H01Q15/02;H01Q15/08;H01Q15/00
• 代理公司: 成都智言知識產(chǎn)權代理有限公司 51282
• 代理人: 徐金瓊

1.一種基于時間反演產(chǎn)生任意方向貝塞爾波束的方法，基于超材料透鏡，其特征在于：所述超材料透鏡由m×n個周期性超材料單元構成，每個超材料單元由6層相同的金屬層、4層相同的介質(zhì)基板和3層相同的空氣層組成，金屬層和介質(zhì)基板的尺寸大小相同，其結構由從下而上依次設置的介質(zhì)基板、金屬層、空氣層、金屬層、介質(zhì)基板、金屬層、空氣層、金屬層、介質(zhì)基板、金屬層、空氣層、介質(zhì)基板和金屬層組成；所述金屬層包括一個含有圓環(huán)通孔的正方形金屬片；

基于時間反演產(chǎn)生任意方向貝塞爾波束的方法通過時間反演操作獲得超材料透鏡m×n個位置相位分布，具體步驟如下：

⑴根據(jù)貝塞爾波的電場與磁場分布公式，通過數(shù)值模擬一束貝塞爾波束，基于單頻率將貝塞爾波束以任意角度斜入射至一個參考平面對這個參考平面的電場進行記錄；

⑵將記錄得到的電場進行時間反演操作，即通過時間反演操作對電場進行相位共軛操作，得到相位共軛電場；

⑶記錄共軛電場對應的相位分布情況后，將相位分布離散化，再對離散化后的相位分布進行等距采樣，最后根據(jù)等距采樣后的相位分布狀況進行超材料透鏡的相位排布，得到超材料透鏡m×n個位置相位分布，即能根據(jù)m×n個位置相位分布、確定每一個位置上的超材料單元的正方形金屬片的內(nèi)圓半徑，再通過超材料單元構成的超材料透鏡產(chǎn)生模擬方向的貝塞爾波束。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種基于時間反演產(chǎn)生任意方向貝塞爾波束的方法，其特征在于：所述介質(zhì)基板大小為7mm×7mm的正方形，厚度為0.8mm，介電常數(shù)為2.65；所述正方形金屬片的大小為7mm×7mm，厚度為0.035mm，圓環(huán)通孔的外圓半徑r1＝3.5mm，為了實現(xiàn)相位0度到360度的調(diào)節(jié)，m×n個周期性超材料單元的內(nèi)圓半徑r2在1mm-3mm之間變化；所述空氣層的厚度為4.2mm。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種基于時間反演產(chǎn)生任意方向貝塞爾波束的方法，其特征在于，所述m與n均正整數(shù)。