[發明專利]富氧膜及其制造方法

有效

• 申請號: 201910292458.1
• 申請日: 2019-04-12
• 公開（公告）號: CN110559811B
• 公開（公告）日: 2022-06-14
• 發明（設計）人: 富田篤志;品川英司;小林大謹;中野太陽
• 申請（專利權）人: 東芝生活電器株式會社
• 主分類號: B01D53/22
• 分類號: B01D53/22;B01D71/76;F25D17/04
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 張楠

本發明提供氣體分離能力優異的富氧膜及其制造方法。富氧膜(62)具有氣體分離層(101)和支撐氣體分離層(101)的多孔質基材層(102)，氣體分離層(101)的表面粗糙度為5nm～1μm。

技術領域

本發明的實施方式涉及富氧膜及其制造方法。

背景技術

作為儲藏于冰箱等儲藏庫中的食品等儲藏品的劣化原因，有由空氣中存在的氧引起的氧化。于是，已知有下述儲藏庫：將儲藏容器的內部的空氣利用泵等排氣機構經由富氧膜(氧分離膜)進行吸引，從而高氧濃度的空氣被排出到儲藏容器的外部，使儲藏容器內的氧濃度降低，由此能夠抑制儲藏品的氧化而維持儲藏品的鮮度。

作為這樣的儲藏庫中使用的富氧膜的制造方法，例如已知有將形成于水面上的氣體分離層轉印到基材上的水面展開法。

然而，對于水面展開法，由于要處理形成于水面上的薄膜，所以作業繁雜，還容易產生膜破損等缺陷，不適于大量生產。

除了上述水面展開法以外，例如還已知有下述溶液涂布法：將在含有具有硅氧烷鍵的化合物的有機硅系組合物中混合催化劑等反應促進劑而得到的混合液涂布于多孔質基材層上，通過加熱使其交聯而使其固化，在多孔質基材層上形成氣體分離層。

然而，若在多孔質基材層上涂布有機硅系組合物等，則由于在涂布后有機硅系組合物浸滲到多孔質基材層的孔部，所以有時在氣體分離層的表面形成微細的凹凸。在氣體分離層的表面形成凹凸、膜厚不均勻的情況下，由于空氣的透過集中于膜厚薄的地方，所以對于氣體分離能力有改善的余地。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平5-111626號公報

發明內容

發明所需要解決的課題

本發明是鑒于上述情況而進行的，目的是提供氣體分離能力優異的富氧膜及其制造方法。

用于解決課題的手段

本實施方式的富氧膜是具有氣體分離層和支撐上述氣體分離層的多孔質基材層的富氧膜，上述氣體分離層的表面粗糙度為5nm～1μm。

本實施方式的富氧膜的制造方法是至少具有氣體分離層和支撐上述氣體分離層的多孔質基材層的富氧膜的制造方法，所述制造方法具有下述工序：通過在實施了脫模處理的脫模膜上涂布氣體分離層組合物而層疊氣體分離層的工序；將層疊于脫模膜上的上述氣體分離層在上述氣體分離層組合物中包含的溶劑完全揮發之前貼合到多孔質基材層上的工序；和使上述氣體分離層組合物所含有的溶劑揮發的工序。

附圖說明

圖1是用于說明具備本發明的一實施方式所涉及的富氧膜的冰箱的截面圖。

圖2是圖1的主要部分截面圖。

圖3是本發明的第1實施方式所涉及的富氧膜的示意截面圖。

圖4是本發明的第2實施方式所涉及的富氧膜的示意截面圖。

符號說明

1：冰箱、2：箱體、10：冷蔵室、12：蔬菜室、30：冷蔵冷卻器、31：冷蔵風扇、32：冷蔵冷卻器室、60：氧分離模塊、61：殼體、62：富氧膜、63：小室、65：排氣口、66：密封材料、70：儲藏容器、70a：后方壁、70b：開口部、90：排氣部、90A：第1排氣泵、90B：第2排氣泵、96：出口流路、97：入口流路、98：送氣流路、196：庫外排氣流路、197：排氣流路、198：導入流路、S1：儲藏空間、S3：調整空間、S4：排氣空間、101：氣體分離層、102：多孔質基材層、103：中間層

具體實施方式

以下，基于圖1～2對具備一實施方式的富氧膜62的冰箱1進行說明。