[發(fā)明專利]多能X射線的EDXRF二次靶自動(dòng)化控制裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910291266.9
• 申請(qǐng)日: 2019-04-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110083091A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-08-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 廖先莉;賴萬(wàn)昌;劉澤斌;王廣西;翟娟;李丹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 成都理工大學(xué)
• 主分類號(hào): G05B19/042
• 分類號(hào): G05B19/042;G01N23/223
• 代理公司: 北京眾合誠(chéng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11246
• 代理人: 馬超前

1.多能X射線的EDXRF二次靶自動(dòng)化控制裝置，其特征在于，包括：X射線管(1)、探測(cè)器(3)、二次靶(4)、電機(jī)(6)和控制器；

所述X射線管(1)發(fā)射出X射線，然后X射線照射到所述二次靶(4)上進(jìn)行能量的選擇激發(fā)，二次靶(4)上的原子產(chǎn)生特征X射線，特征X射線然后激發(fā)樣品(2)中的待測(cè)元素，利用探測(cè)器(3)接收樣品(2)中的待測(cè)元素的特征X射線；

所述二次靶(4)由電機(jī)(6)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述電機(jī)(6)和控制器連接，所述電機(jī)(6)和控制器分別與電源連接。

2.如權(quán)利要求1所述的多能X射線的EDXRF二次靶自動(dòng)化控制裝置，其特征在于，所述二次靶(4)設(shè)置在靶盤(pán)(9)上，所述靶盤(pán)(9)由電機(jī)(6)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)。

3.如權(quán)利要求2所述的多能X射線的EDXRF二次靶自動(dòng)化控制裝置，其特征在于，所述電機(jī)(6)的主軸連接有小齒輪(7)，所述小齒輪(7)和大齒輪(5)嚙合，所述大齒輪(5)和靶盤(pán)(9)的靶盤(pán)主軸連接。

4.如權(quán)利要求3所述的多能X射線的EDXRF二次靶自動(dòng)化控制裝置，其特征在于，所述自動(dòng)化控制裝置還包括兩個(gè)光學(xué)編碼器(8)，所述靶盤(pán)主軸上和電機(jī)(6)的主軸上分別設(shè)置有所述光學(xué)編碼器(8)，兩個(gè)所述光學(xué)編碼器(8)均和控制器連接。

5.如權(quán)利要求1所述的多能X射線的EDXRF二次靶自動(dòng)化控制裝置，其特征在于，所述X射線管(1)的出射窗上設(shè)有鉛筒。

6.如權(quán)利要求2所述的多能X射線的EDXRF二次靶自動(dòng)化控制裝置，其特征在于，所述靶盤(pán)(9)上設(shè)有多個(gè)二次靶(4)。

7.如權(quán)利要求6所述的多能X射線的EDXRF二次靶自動(dòng)化控制裝置，其特征在于，所述靶盤(pán)(9)上可以均勻設(shè)有四個(gè)、六個(gè)或八個(gè)二次靶(4)，每個(gè)二次靶(4)均被等分為若干部分，每個(gè)部分設(shè)置有相同或不同的靶材。

8.如權(quán)利要求1所述的多能X射線的EDXRF二次靶自動(dòng)化控制裝置，其特征在于，所述控制器外接有人機(jī)交互模塊，所述人機(jī)交互模塊包括報(bào)警裝置、顯示裝置和鍵盤(pán)，所述控制器和光電耦合器連接，光電耦合器通過(guò)驅(qū)動(dòng)電路和電機(jī)(6)連接。

9.如權(quán)利要求1-8任一所述的多能X射線的EDXRF二次靶自動(dòng)化控制裝置，其特征在于，所述控制器采用型號(hào)為AT89C52的單片機(jī)，所述電機(jī)(6)為步進(jìn)電機(jī)。