[發(fā)明專利]負(fù)電容場效應(yīng)晶體管及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910289934.4 | 申請日: | 2019-04-11 |
| 公開(公告)號: | CN110010691B | 公開(公告)日: | 2022-07-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 殷華湘;張青竹;張兆浩;葉甜春 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
| 主分類號: | H01L29/78 | 分類號: | H01L29/78;H01L29/51;H01L21/336;H01L21/8238 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 韓建偉 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電容 場效應(yīng) 晶體管 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種負(fù)電容場效應(yīng)晶體管及其制備方法。該負(fù)電容場效應(yīng)晶體管包括:襯底結(jié)構(gòu),襯底結(jié)構(gòu)包括MOS區(qū)域;柵絕緣介質(zhì)層結(jié)構(gòu),覆蓋于MOS區(qū)域上,包括沿遠(yuǎn)離襯底結(jié)構(gòu)的方向順序?qū)盈B的界面氧化層、HfO2層、摻雜材料薄層和鐵電材料層,其中,鐵電材料層中鐵電材料為HfxA1?xO2,A為摻雜元素,0.1≤x≤0.9,形成摻雜材料薄層的材料為AyOz或A,y/z為1/2、2/3、2/5和1/1中的任一比值;金屬柵疊層,覆蓋于柵絕緣介質(zhì)層結(jié)構(gòu)上。通過晶格應(yīng)變或者金屬元素誘導(dǎo)改變其上HfxA1?xO2的晶格與晶粒大小,從而通過提升鐵電材料的電疇極性,提高了NCFET的鐵電特性、材料穩(wěn)定性和可靠性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體集成技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種負(fù)電容場效應(yīng)晶體管及其制備方法。
背景技術(shù)
未來集成電路將持續(xù)發(fā)展,除了集成密度繼續(xù)提升,電路的功耗越來越重要。持續(xù)降低工作電壓VDD,并降低器件漏電成為技術(shù)關(guān)鍵。采用GAA等新結(jié)構(gòu)可以部分實現(xiàn)上述目標(biāo),但需要VDD持續(xù)縮減到0.5V以下時,晶體管亞閾值擺幅的玻爾茲曼限制(SS≥60mV/dec)成為關(guān)鍵技術(shù)挑戰(zhàn)。發(fā)展突破SS限制的新技術(shù)成為未來新技術(shù)關(guān)鍵方向。
除了基于量子隧穿的TFET,在柵極結(jié)構(gòu)中集成基于鐵電材料的鐵電電容,使之與柵電容串聯(lián),在鐵電電疇翻轉(zhuǎn)時形成負(fù)電容,并在合適工作條件下,可形成內(nèi)部電勢放大,從而改變晶體管開關(guān)時的表面電勢,從而突破SS的玻爾茲曼限制,獲得較大的電流收益,實現(xiàn)VDD降低。該器件成為負(fù)電容場效應(yīng)晶體管(NCFET)。
NCFET中鐵電電容CFE和其關(guān)鍵材料具有重要作用,該材料需要實現(xiàn)良好的鐵電效應(yīng),并保持良好穩(wěn)定性、可靠性,而且需要工藝簡單,和傳統(tǒng)工藝兼容。現(xiàn)有技術(shù)中的鐵電材料包括鋯鈦酸鉛(PZT)、鈦酸鉛(PbTiO3)、鉭鈧酸鉛(PST)、鈦酸鍶鋇(BST)、聚氟乙烯(PVF)以及聚偏二氟乙烯(PVDF)等。上述材料需要特殊工藝,并要一定厚度產(chǎn)生鐵電性,導(dǎo)致在CMOS極度微縮過程中應(yīng)用受限。
除上述鐵電材料之外,正交相HfO2晶體也能夠產(chǎn)生鐵電性,其簡單結(jié)構(gòu),與傳統(tǒng)HkMG工藝兼容,從而工藝簡單,比PZT等材料相比可靠更高,在相同的鐵電性條件下所需要的膜層厚度更小。并且,通過Si、Y、Zr、Al等元素?fù)诫s,能夠極大提升HfO2的鐵電極性,形成HfZrOx(HZO)、HfSiOx和HfAlOx等更強極性材料。
以PMOS為例,將鐵電HZO材料集成于晶體管結(jié)構(gòu)中的工藝通常是:在后柵工藝中在形成傳統(tǒng)界面氧化層/HfO2層(IL/HK)之上再生長一層HZO材料,其余與傳統(tǒng)工藝相同,在之后的工藝中通過退火形成多晶晶粒,晶粒中形成正交相,然后產(chǎn)生強鐵電極性。
然而,隨著半導(dǎo)體器件的持續(xù)發(fā)展,上述鐵電材料極性已逐漸無法得到滿足,因此,現(xiàn)有技術(shù)中亟需提供一種在有限的柵極空間內(nèi)繼續(xù)提升鐵電材料極性的方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種負(fù)電容場效應(yīng)晶體管及其制備方法,以在有限的柵極空間內(nèi)繼續(xù)提升鐵電材料的極性。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





