[發明專利]管道內壁測量系統

有效

• 申請號: 201910285405.7
• 申請日: 2019-04-10
• 公開（公告）號: CN109883328B
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: 繆東晶;劉學德;王國磊;李建雙;李連福;張帥;鄭繼輝
• 申請（專利權）人: 中國計量科學研究院
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00;G01B11/24
• 代理公司: 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606
• 代理人: 趙永輝;王程

1.一種管道內壁測量系統，其特征在于，包括：

激光跟蹤儀裝置(10)，包括激光跟蹤儀(110)，用于通過被測彎曲管道(40)一端的端口向所述被測彎曲管道(40)內射入第一束激光；

光路反射裝置(20)，設置于所述被測彎曲管道(40)的內壁，所述光路反射裝置(20)包括反射結構(280)，所述第一束激光射到所述反射結構(280)，用于改變所述第一束激光的光路方向；

回射壓緊機構(30)，設置于所述被測彎曲管道(40)的內壁，所述回射壓緊機構(30)包括第一回射結構(310)，經所述反射結構(280)反射后的所述第一束激光射到所述第一回射結構(310)，所述第一束激光經所述第一回射結構(310)回射形成第二束激光，所述第二束激光沿所述第一束激光的光路返回至所述激光跟蹤儀(110)，所述激光跟蹤儀(110)接收所述第二束激光并通過所述激光跟蹤儀裝置(10)測算所述第一回射結構(310)的空間位置；

機械臂結構(50)，與所述回射壓緊機構(30)連接，用以將所述回射壓緊機構(30)移動安放于所述被測彎曲管道(40)的內壁。

2.如權利要求1所述的管道內壁測量系統，其特征在于，所述光路反射裝置(20)包括：

支撐架(210)，用以支撐所述光路反射裝置(20)，且所述支撐架(210)可拆卸安裝于所述被測彎曲管道(40)的內壁；

安裝框架(220)，具有多個安裝框架支撐桿(221)，所述多個安裝框架支撐桿(221)依次連接包圍形成一個第一安裝空間(222)；

水平旋轉框架(230)，設置于所述第一安裝空間(222)，且所述水平旋轉框架(230)垂直方向軸連接設置于所述安裝框架(220)，用以實現水平方向旋轉，所述水平旋轉框架(230)具有多個水平旋轉框架支撐桿(231)，所述多個水平旋轉框架支撐桿(231)依次連接包圍形成一個第二安裝空間(232)；

所述反射結構(280)安裝于所述第二安裝空間(232)，用以通過所述水平旋轉框架(230)水平方向旋轉所述反射結構(280)。

3.如權利要求2所述的管道內壁測量系統，其特征在于，所述光路反射裝置(20)還包括：

水平旋轉電機(260)，與所述水平旋轉框架(230)軸連接，且所述水平旋轉電機(260)設置于所述安裝框架(220)。

4.如權利要求2所述的管道內壁測量系統，其特征在于，所述光路反射裝置(20)還包括：

垂直旋轉框架(240)，設置于所述第二安裝空間(232)，且所述垂直旋轉框架(240)水平方向軸連接設置于所述水平旋轉框架(230)，用以實現垂直方向旋轉，所述垂直旋轉框架(240)具有多個垂直旋轉框架支撐桿(241)，所述多個垂直旋轉框架支撐桿(241)依次連接包圍形成一個第三安裝空間(242)；

所述反射結構(280)安裝于所述第三安裝空間(242)，用以通過所述光路反射裝置(20)實現水平方向和垂直方向旋轉所述反射結構(280)。

5.如權利要求4所述的管道內壁測量系統，其特征在于，所述光路反射裝置(20)還包括：

垂直旋轉電機(270)，與所述垂直旋轉框架(240)軸連接，且所述垂直旋轉電機(270)設置于所述水平旋轉框架(230)遠離所述第二安裝空間(232)的表面。

6.如權利要求2所述的管道內壁測量系統，其特征在于，所述光路反射裝置(20)還包括：

所述安裝框架(220)開設有多個對稱設置的孔位(224)；

多個磁性支座(290)，每個所述磁性支座(290)設置于每個所述孔位(224)；

多個第二回射結構(250)，每個所述第二回射結構(250)吸附于每個所述磁性支座(290)。