[發明專利]基于多層石墨烯紋身式無襯底電極制備方法及裝置

在審

• 申請號: 201910277114.3
• 申請日: 2019-04-08
• 公開（公告）號: CN110074758A
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發明（設計）人: 任天令;伍曉明;喬彥聰
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: A61B5/00
• 分類號: A61B5/00;A61B5/04;A61B5/0408;A61B5/0478;A61B5/0492
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張潤

1.一種基于多層石墨烯紋身式無襯底電極制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

配制石墨烯氧化物溶液；

將所述石墨烯氧化物溶液滴加到紋身襯底上，以使所述石墨烯氧化物溶液在所述紋身襯底揮發后形成石墨烯氧化物薄膜；

通過激光還原所述石墨烯氧化物薄膜，形成石墨烯電極圖案；以及

通過水溶液剝離未還原的石墨烯氧化物薄膜，并去掉所述紋身襯底，生成紋身式無襯底電極。

2.根據權利要求1所述的基于多層石墨烯紋身式無襯底電極制作方法，其特征在于，所述紋身襯底包括支撐層、犧牲層和襯底層。

3.根據權利要求2所述的，其特征在于，在所述石墨烯氧化物溶液滴加在所述襯底層上之后，還包括：

通過所述犧牲層遇水溶解，將所述支撐層和所述襯底層分開。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述通過激光還原所述石墨烯氧化物薄膜，進一步包括：

將預設圖案輸入激光直寫平臺，并通過所述激光將所述預設圖案書寫到所述石墨烯氧化物薄膜上，并在激光照射位置形成石墨烯。

5.一種基于多層石墨烯紋身式無襯底電極制備裝置，其特征在于，包括：

配制模塊，用于配制石墨烯氧化物溶液；

處理模塊，用于將所述石墨烯氧化物溶液滴加到紋身襯底上，以使所述石墨烯氧化物溶液在所述紋身襯底揮發后形成石墨烯氧化物薄膜；

還原模塊，用于通過激光還原所述石墨烯氧化物薄膜，形成石墨烯電極圖案；以及

生成模塊，用于通過水溶液剝離未還原的石墨烯氧化物薄膜，并去掉所述紋身襯底，生成紋身式無襯底電極。

6.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，還包括：

檢測模塊，用于將所述紋身式無襯底電極移至目標部位上，獲取目標部位的檢測信號；

信號處理模塊，用于接收并放大所述檢測信號；以及

信號顯示模塊，用于顯示所述檢測信號。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述信號顯示模塊包括：

無線傳輸單元，用于通過無線傳輸將所述檢測信號發送至移動終端。

8.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述處理模塊還用于通過所述犧牲層遇水溶解，將所述支撐層和所述襯底層分開，石墨烯層與所述襯底層分開形成全石墨烯結構。

9.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述還原模塊包括：

輸入單元，用于將預設圖案輸入激光的直寫平臺；

書寫單元，用于通過所述激光將所述預設圖案書寫到所述石墨烯氧化物薄膜上，并在激光照射位置形成石墨烯。

10.根據權利要求5-9任一項所述的裝置，其特征在于，所述紋身襯底包括支撐層、犧牲層和襯底層。