[發明專利]一種納米尺度孔材料、電極及儲能設備在審
| 申請號： | 201910277053.0 | 申請日： | 2019-04-08 |
| 公開（公告）號： | CN111799431A | 公開（公告）日： | 2020-10-20 |
| 發明（設計）人： | 辛民昌;李長明;吳超;辛程勛 | 申請（專利權）人： | 青島九環新越新能源科技股份有限公司 |
| 主分類號： | H01M4/02 | 分類號： | H01M4/02;H01G11/26 |
| 代理公司： | 重慶航圖知識產權代理事務所(普通合伙) 50247 | 代理人： | 胡小龍 |
| 地址： | 266102 山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 納米 尺度 材料 電極 設備 | ||
1.一種納米尺度的孔材料，其特征在于：包括材料本體(1)，所述材料本體(1)的至少一個側面上規則分布的納米尺度孔(2)。
2.根據權利要求1所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)為設置在所述材料本體(1)側面上的盲孔。
3.根據權利要求2所述的納米尺度孔材料，其特征在于：垂直于所述納米尺度孔(2)軸線的任意兩個平面在該所述納米尺度孔(2)上截得的兩個徑向截面中，距離所述納米尺度孔(2)孔底較近的所述徑向截面的面積小于等于距離所述納米尺度孔(2)孔底較遠的所述徑向截面的面積。
4.根據權利要求1所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)為貫穿所述材料本體(1)的通孔。
5.根據權利要求1-4任一項所述的納米尺度孔材料，其特征在于：垂直于所述納米尺度孔(2)軸線的任意平面在該所述納米尺度孔(2)上截得的兩個徑向截面的為相似圖形。
6.根據權利要求5所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述徑向截面為圓形、橢圓形、三角形、正方形、長方形、菱形或正多邊形。
7.根據權利要求1所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)呈陣列設置。
8.根據權利要求1所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)呈漸變陣列設置。
9.根據權利要求8所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)以孔徑、孔間距或孔形狀為基準漸變陣列設置。
10.根據權利要求1所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)的孔徑大于等于1nm。
11.根據權利要求10所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)的孔徑小于等于1um。
12.根據權利要求11所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)的孔徑小于等于100nm。
13.根據權利要求12所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)的孔徑小于等于50nm。
14.根據權利要求13所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)的孔徑大于等于2nm。
15.根據權利要求1所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)之間的孔間距滿足：
L≤kδ
其中，L為納米尺度孔的孔間距；k為系數，且k≥1；δ為擴散控制層厚度。
16.根據權利要求15所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)之間的孔間距滿足：L≤10δ。
17.據權利要求16所述減的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)之間的孔間距滿足：L≤5δ。
18.據權利要求17所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)之間的孔間距滿足：L≤2δ。
19.據權利要求18所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)之間的孔間距滿足：L≤δ。
20.據權利要求19所述的納米尺度孔材料，其特征在于：所述納米尺度孔(2)陣列設置在所述材料本體(1)的側面上。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于青島九環新越新能源科技股份有限公司，未經青島九環新越新能源科技股份有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910277053.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
