[發(fā)明專利]一種具有載流子遷移率可控的金紅石相二氧化鈦薄膜材料的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910276717.1
• 申請(qǐng)日: 2019-04-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109913835B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-09-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 丁萬(wàn)昱;張一;何艷菲;張?chǎng)?/a>
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大連交通大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/08;C23C14/58
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責(zé)任公司 21212
• 代理人: 趙淑梅;李馨

1.一種具有載流子遷移率可控的金紅石相二氧化鈦薄膜材料的制備方法，其特征在于：所述制備方法為：利用直流脈沖反應(yīng)磁控濺射方法在自然室溫條件下以石英片為基底材料，以高純鈦為濺射靶材，以高純氬和高純氧為濺射氣體，進(jìn)行磁控濺射制備二氧化鈦薄膜，得到的二氧化鈦薄膜厚度為500nm，二氧化鈦薄膜材料呈銳鈦礦相結(jié)構(gòu)，其中：直流脈沖濺射電源工作頻率為300kHz，鈦靶表面濺射的功率密度為5.0W/cm²，氬流量為20sccm，氧流量為10sccm；將上述銳鈦礦相二氧化鈦薄膜在馬弗爐內(nèi)進(jìn)行1000℃退火80min，得到金紅石相二氧化鈦薄膜材料，該金紅石相二氧化鈦薄膜材料的電子遷移率為38.64cm²/Vs。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述磁控濺射的靶材為金屬鈦靶，所述高純鈦的純度為99.99%。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述高純氬的純度為99.99%，所述高純氧的純度為99.99%。