[發明專利]雜質的熒光檢測

在審

• 申請號: 201910276638.0
• 申請日: 2019-04-08
• 公開（公告）號: CN110346335A
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發明（設計）人: K·D·魯博
• 申請（專利權）人: 維蒂克影像國際無限責任公司
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 曾琳

1.一種檢測雜質在板層中的存在的方法，包括以下步驟：

用熒光指示器標記雜質源；

將所述雜質源與所述板層分離；

提供照射源以用于照射所述板層，由此所述板層反射與所述熒光指示器發熒光相比不同波長的光；

提供傳感器以用于檢測所述板層的照射和設置于所述板層上的雜質中包括的熒光指示器；以及

識別從所述板層反射的光和設置在雜質中的指示器的熒光的差異，從而識別雜質在所述板層中的存在。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，照射所述板層的所述步驟通過如下來進一步限定：用具有與從所述熒光指示器反射的光相比不同波長的光照射所述板層。

3.根據權利要求1所述的方法，進一步包括：從所述傳感器對來自所述照射源的光進行濾光的步驟。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，提供照射源的所述步驟通過如下來進一步限定：提供綠色激光器和發光二極管中的一個。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，識別從所述板層反射的光和設置在雜質中的指示器的熒光的差異的所述步驟通過如下來進一步限定：檢測具有590nm和625nm之間的波長的熒光。

6.根據權利要求1所述的方法，其中，識別從所述板層反射的光和設置在雜質中的指示器的熒光的差異的所述步驟通過如下來進一步限定：檢測具有大約606nm的波長的熒光。

7.根據權利要求1所述的方法，進一步包括：將所述板層在沒有光源照射的情況下的圖像與所述板層在有光源照射的情況下的圖像進行交織以用于減去環境光的照射的步驟。

8.根據權利要求1所述的方法，進一步包括：提供監視器的步驟，所述監視器用于從所述傳感器接收信號，從而產生識別熒光污染物在所述板層上的位置的圖像。

9.根據權利要求1所述的方法，其中，照射所述板層的所述步驟通過如下來進一步限定：激光投影儀連續地照射所述板層，直到熒光污染物被分離為止。

10.根據權利要求1所述的方法，進一步包括：記錄全部熒光污染物已經與板層分離的驗證的步驟。

11.根據權利要求1所述的方法，進一步包括：所述照射源在所述板層上掃描指示器以用于識別污染物的位置的步驟。

12.根據權利要求1所述的方法，進一步包括：提供光學疊層投射系統以用于定位疊層上的感興趣區域的步驟。

13.根據權利要求12所述的方法，進一步包括：識別感興趣區域以用于指導激光投影儀在哪里掃描照射并用信號向照相機通知檢測照射的位置從而識別污染物的步驟。

14.根據權利要求13所述的方法，進一步包括：區分用于檢測污染物的關鍵的感興趣區域和其中污染物不是關鍵的無關區域的步驟。