[發(fā)明專利]陣列基板、其制作方法、顯示面板及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910274830.6 | 申請日: | 2019-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN109976056B | 公開(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蒲巡;吳君輝;畢鑫 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;H10K59/126;H10K59/131 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭潤湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 制作方法 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,包括襯底基板,所述襯底基板具有顯示區(qū)域和包圍所述顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域;所述非顯示區(qū)域包括位于所述襯底基板上的柵極驅(qū)動電路和用于向所述柵極驅(qū)動電路提供信號的信號線,以及包括位于所述柵極驅(qū)動電路和所述信號線所在膜層上方的屏蔽層;其中,所述屏蔽層在所述襯底基板上的正投影至少覆蓋所述信號線在所述襯底基板上的正投影,所述屏蔽層在所述襯底基板上的正投影還覆蓋所述柵極驅(qū)動電路在所述襯底基板上的正投影;
所述信號線包括異層設(shè)置、且相互電連接的第一信號線和第二信號線;
所述第一信號線和所述第二信號線通過位于所述第一信號線和所述第二信號線所在膜層上方的導(dǎo)電連接線電連接,且所述導(dǎo)電連接線與所述屏蔽層相互絕緣;所述導(dǎo)電連接線與所述屏蔽層同層設(shè)置;
所述柵極驅(qū)動電路具有接地信號端,所述屏蔽層與所述接地信號端電連接。
2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述顯示區(qū)域包括:位于所述襯底基板上的源漏電極層、像素電極層和公共電極層;所述源漏電極層位于所述像素電極層背離所述襯底基板一側(cè),所述公共電極層位于所述源漏電極層背離所述襯底基板一側(cè);其中,至少部分所述信號線與所述源漏電極層同層設(shè)置,所述屏蔽層與所述公共電極層同層設(shè)置。
3.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述顯示區(qū)域包括:位于所述襯底基板上的源漏電極層、像素電極層和公共電極層;所述源漏電極層位于所述像素電極層與所述襯底基板之間,所述公共電極層位于所述像素電極層背離所述襯底基板一側(cè);其中,至少部分所述信號線與所述源漏電極層同層設(shè)置,所述屏蔽層與所述像素電極層同層設(shè)置,或所述屏蔽層與所述公共電極層同層設(shè)置。
4.一種顯示面板,其特征在于,包括如權(quán)利要求1-3任一項所述的陣列基板。
5.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求4所述的顯示面板。
6.一種如權(quán)利要求1-3任一項所述的陣列基板的制作方法,其特征在于,包括:
在襯底基板的非顯示區(qū)域形成柵極驅(qū)動電路和用于向所述柵極驅(qū)動電路提供信號的信號線;所述信號線包括異層設(shè)置、且相互電連接的第一信號線和第二信號線;所述柵極驅(qū)動電路具有接地信號端;
在所述第一信號線和所述第二信號線所在膜層上方形成導(dǎo)電連接線;所述第一信號線和所述第二信號線通過所述導(dǎo)電連接線電連接;
在形成有所述柵極驅(qū)動電路和所述信號線的襯底基板上形成屏蔽層;其中,所述屏蔽層在所述襯底基板上的正投影至少覆蓋所述信號線在所述襯底基板上的正投影,所述屏蔽層在所述襯底基板上的正投影還覆蓋所述柵極驅(qū)動電路在所述襯底基板上的正投影;所述導(dǎo)電連接線與所述屏蔽層相互絕緣,且所述導(dǎo)電連接線與所述屏蔽層同層設(shè)置;所述屏蔽層與所述接地信號端電連接。
7.如權(quán)利要求6所述的陣列基板的制作方法,其特征在于,還包括:在所述襯底基板的顯示區(qū)域形成位于所述襯底基板上的像素電極層和公共電極層;其中,
通過一次構(gòu)圖工藝形成所述屏蔽層和所述公共電極層的圖形;或
通過一次構(gòu)圖工藝形成所述屏蔽層和所述像素電極層的圖形。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司,未經(jīng)京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910274830.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





