[發明專利]氣體噴淋頭、制作方法及包括氣體噴淋頭的等離子體裝置

在審

• 申請號: 201910269600.0
• 申請日: 2019-04-04
• 公開（公告）號: CN111785604A
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 倪圖強;徐朝陽;江家瑋
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）股份有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 上海元好知識產權代理有限公司 31323
• 代理人: 徐雯瓊;張靜潔

1.一種用于等離子體裝置的氣體噴淋頭，所述氣體噴淋頭包括一具有進氣面和出氣面的氣體分布板，所述氣體分布板為具有一圓心的圓盤形結構，包括一經過所述圓心并垂直所述氣體分布板的中心軸線，其特征在于，所述氣體分布板上包括若干具有以所述圓心為圓心的環形氣體分布區；

每一環形氣體分布區上設置多個貫穿所述進氣面和所述出氣面的氣體通孔，所述氣體通孔至少包括沿徑向傾斜一定角度的多個第一氣體通孔，所述氣體通孔還包括多個第二氣體通孔，所述第二氣體通孔與所述中心軸線平行或與所述第一氣體通孔具有不同的徑向傾斜方向；

所述同一環形氣體分布區中第一氣體通孔和第二氣體通孔中流出的氣體互相遠離。

2.如權利要求1所述的氣體噴淋頭，其特征在于：所述多個第一氣體通孔的出氣方向向靠近所述中心軸線方向傾斜，所述多個第二氣體通孔的出氣方向向遠離所述中心軸線方向傾斜或與中心軸線平行。

3.如權利要求1所述的氣體噴淋頭，其特征在于：所述多個第一氣體通孔的出氣方向向遠離所述中心軸線方向傾斜，所述多個第二氣體通孔的出氣方向向靠近所述中心軸線方向傾斜或與中心軸線平行。

4.如權利要求1所述的氣體噴淋頭，其特征在于：同一環形氣體分布區中所述第一氣體通孔和第二氣體通孔在所述進氣面上的開口中心到所述中心軸線具有第一徑向距離差，所述同一氣體分布區中所述第一氣體通孔和第二氣體通孔在所述出氣面上的開口中心到所述中心軸線具有第二徑向距離差，所述第二徑向距離差大于所述第一徑向距離差。

5.如權利要求2所述的氣體噴淋頭，其特征在于：同一氣體分布區中所述第一氣體通孔和第二氣體通孔在所述進氣面上的開口中心到所述中心軸線的距離相等，所述第一氣體通孔和所述第二氣體通孔交替間隔設置。

6.如權利要求4所述的氣體噴淋頭，其特征在于：同一氣體分布區中所述第一氣體通孔和第二氣體通孔在所述進氣面上的開口中心到所述中心軸線的距離相等，若干相鄰所述第一氣體通孔組成第一氣體單元，若干相鄰所述第二氣體通孔組成第二氣體單元，所述第一氣體單元和第二氣體單元交替間隔設置。

7.如權利要求1所述的氣體噴淋頭，其特征在于：所述多個第一氣體通孔的出氣方向向靠近所述中心軸線方向傾斜，所述多個第二氣體通孔的出氣方向向遠離所述中心軸線方向傾斜，所述氣體分布板上還設置多個第三氣體通孔，所述第三氣體通孔與所述中心軸線平行，所述第一氣體通孔、第二氣體通孔和第三氣體通孔交替間隔設置。

8.如權利要求4所述的氣體噴淋頭，其特征在于：同一氣體分布區中所述第一氣體通孔和第二氣體通孔在所述進氣面上的開口中心到所述中心軸線存在一大于0的徑向距離差。

9.如權利要求8所述的氣體噴淋頭，其特征在于：同一氣體分布區中所述第一氣體通孔在所述進氣面上的開口中心到所述中心軸線的徑向距離小于所述第二氣體通孔在所述進氣面上的開口中心到所述中心軸線的徑向距離，所述第一氣體通孔和所述第二氣體通孔在所述進氣面上的開口中心兩兩位于同一徑向上。

10.如權利要求8所述的氣體噴淋頭，其特征在于：同一氣體分布區中所述第一氣體通孔在所述進氣面上的開口中心到所述中心軸線的徑向距離小于所述第二氣體通孔在所述進氣面上的開口中心到所述中心軸線的徑向距離，所述第一氣體通孔和第二氣體通孔在所述進氣面上的開口中心分別位于不同徑向上。

11.如權利要求1所述的氣體噴淋頭，其特征在于：所述第一傾斜角度和所述第二傾斜角度大于等于0°小于30°。

12.如權利要求1所述的氣體噴淋頭，其特征在于：所述第一氣體通孔和所述第二氣體通孔之間的夾角大于等于5°。