[發明專利]一種雙面電池的制備方法在審
| 申請號: | 201910261164.2 | 申請日: | 2019-04-02 |
| 公開(公告)號: | CN109950347A | 公開(公告)日: | 2019-06-28 |
| 發明(設計)人: | 許穎;何仁;陳靜偉;陳劍輝 | 申請(專利權)人: | 河北大學 |
| 主分類號: | H01L31/048 | 分類號: | H01L31/048;H01L31/18 |
| 代理公司: | 石家莊國域專利商標事務所有限公司 13112 | 代理人: | 胡素梅 |
| 地址: | 071002 河北*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 摻雜源 沉積 擴散 超聲霧化 雙面電池 雙面擴散 擴散爐 陶瓷輥 烘干 制備 超聲霧化裝置 硼酸 管式擴散爐 工藝過程 磷硅玻璃 硼硅玻璃 霧化摻雜 印刷電極 正反兩面 產業化 腐蝕液 富磷層 減反層 磷酸 硼層 去除 加熱 配制 摻雜 采購 污染 生產 | ||
本發明提供了一種雙面電池的制備方法。本發明采用陶瓷輥式擴散爐對基片的正反兩面進行雙面擴散,而且在擴散之前采用超聲霧化裝置進行超聲霧化沉積摻雜源,摻雜源分別是配制的特定濃度的硼酸和磷酸,超聲霧化沉積摻雜源后在加熱臺上烘干摻雜源中的水分,烘干后進行擴散,即本發明是依次單面霧化摻雜源,單面擴散,因此不存在管式擴散爐中氣體摻雜源的繞擴問題,有效避免了摻雜結被污染。經陶瓷輥式擴散爐雙面擴散后,采用腐蝕液去除硼硅玻璃、磷硅玻璃、富硼層和富磷層。最后沉積減反層以及印刷電極。整個工藝過程簡單,擴散時間短,而且設備的采購成本較低,有利于大量進行生產,可產業化。
技術領域
本發明涉及太陽電池制作技術領域,具體地說是一種雙面電池的制備方法。
背景技術
目前P型晶硅占據著市場的絕對份額。然而,不斷的追求效率提升和成本降低是光伏行業永恒的主題。N型單晶硅較常規的P型單晶硅具有少子壽命高、光致衰減小、弱光響應好、溫度系數低等特點。隨著科學技術的進步,N型硅片的生產成本也在進一步的降低,因此N型電池片得到了越來越多的應用。由于已經研制出了N型硅片的硼擴散方法,因此N型雙面電池也應運而生。雙面電池需要兩面都進行不同程度的雜質元素擴散,其優點是對非受光面進行吸雜,同時產生一個高低結,進而提高電壓的輸出,從而提高電池的效率。
現有技術中大多是采用CVD沉積氮化硅和氧化硅作為掩膜,用來作為避免一面擴散時對另一面造成影響的阻擋層。由于經過CVD沉積的氮化硅和氧化硅的潔凈度相對于擴散爐的潔凈度差很多,再帶進爐管擴散會污染爐管,并且擴散后氧化硅很難清洗干凈。最后做出的雙面擴散不潔凈,導致最后效率不高。公布號為CN 105914239 A的專利申請文件中針對以上問題做出了改進,通過硅片雙面熱氧化,然后前后表面涂負膠的方法來保護好阻擋層,進而在管式擴散爐中得到了質量較高的雙面擴散結。公布號為CN 105826431 A的專利申請文件中利用N2O和SiH4在N型硅片的正面制作氧化硅掩膜,背面進行磷擴散,能有效避免背面的磷擴散對正面硼擴散的繞擴影響,能夠保證雙面擴散過程中的潔凈度,提高電池的光伏轉換效率。但是上述兩種工藝過程都比較復雜,且生產成本高,不利于工業化生產。而公布號為CN 102683486 A的專利申請文件中利用絲網印刷的方法,在非受光面印刷硼漿,烘干之后非受光面面對面緊貼,兩兩一組,放管式擴散爐中,完成雙面擴散,達到提高效率的目的。該方法有效的簡化了生產步驟,但是印刷硼漿后的擴散結均勻性不是很好,且也采用管式擴散爐生產,生產成本較高。
發明內容
本發明的目的就是提供一種雙面電池的制備方法,該方法一方面可解決雙面擴散易造成繞擴的問題,另一方面工藝簡單、生產成本低、易于實現產業化。
本發明是這樣實現的:一種雙面電池的制備方法,包括如下步驟:
a、采用超聲霧化裝置在基片正面通過超聲霧化沉積硼酸;
b、在加熱臺上對基片正面所沉積的硼酸進行烘干;
c、將基片置于陶瓷輥式擴散爐中,在960℃-980℃下保持15min-25min,在基片正面進行硼擴散;
d、采用超聲霧化裝置在基片背面通過超聲霧化沉積磷酸;
e、在加熱臺上對基片背面所沉積的磷酸進行烘干;
f、將基片置于陶瓷輥式擴散爐中,在850℃-900℃下保持15min-25min,在基片背面進行磷擴散;
g、采用氫氟酸去除基片正面的硼硅玻璃和背面的磷硅玻璃;采用氫氟酸、硝酸和水的混合溶液去除基片正面的富硼層和背面的富磷層;
h、采用等離子體化學氣相沉積法在基片的正面和背面分別鍍SiNX減反層;
i、采用絲網印刷工藝在基片的正面和背面印刷銀漿并烘干、燒結至正面和背面均形成插指狀的電極。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





