[發(fā)明專利]納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體與加工方法及其首飾在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910257893.0 | 申請日： | 2019-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN109859615A | 公開（公告）日： | 2019-06-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 胡惠;林海坤 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳圣世文化發(fā)展有限公司 |
| 主分類號： | G09F3/02 | 分類號： | G09F3/02 |
| 代理公司： | 深圳市精英專利事務(wù)所 44242 | 代理人： | 鐘火軍 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市羅*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 點狀體 微雕技術(shù) 防偽層 首飾 鐳射防偽標(biāo)志 畫像 標(biāo)志結(jié)構(gòu) 結(jié)構(gòu)體 裝飾面 連線 反射 防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu) 反射光線 規(guī)則分布 鐳射激光 圖形文字 安裝面 顯示面 淺色 防偽 加工 展示 | ||
1.一種納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體，其特征在于，包括具有防偽層的標(biāo)志結(jié)構(gòu)體；所述標(biāo)志結(jié)構(gòu)體設(shè)有一個裝飾面，以及用于安裝與首飾結(jié)構(gòu)的安裝面；所述裝飾面用于設(shè)置圖形文字畫像，所述防偽層設(shè)置于裝飾面上；所述防偽層包括以納米微雕技術(shù)制成并規(guī)則分布的若干個點狀體，所述點狀體連線形成特殊的文字、圖形或畫像，用于反射光線并在淺色顯示面形成所述點狀體連線形成的文字、圖形或畫像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體，其特征在于，所述點狀體的高度為0.001-0.100mm，所述點狀體的上端均處于一個平面或曲面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體，其特征在于，所述安裝面設(shè)有粘性物質(zhì)，用于安裝于首飾結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體，其特征在于，所述安裝面設(shè)有安裝結(jié)構(gòu)，所述的安裝結(jié)構(gòu)采用卡槽或燕尾槽，用于與首飾結(jié)構(gòu)連接；或，所述標(biāo)志結(jié)構(gòu)體與首飾結(jié)構(gòu)固定連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體，其特征在于，所述點狀體上端設(shè)有保護層，用于保護點狀體不會脫落衰減。
6.一種納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體的加工方法，基于權(quán)利要求1-5任一項所述的納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體，其特征在于，包括以下步驟：
刻板步驟，運用超微型自行雕刻技術(shù)，將防偽內(nèi)容雕刻制成圖檔格式，并得到防偽圖檔數(shù)據(jù)；
數(shù)據(jù)處理步驟，將防偽圖檔數(shù)據(jù)進行排版處理，將排版處理后的數(shù)據(jù)傳輸至微雕設(shè)備，準(zhǔn)備進行微雕；
微雕步驟，將防偽圖檔數(shù)據(jù)中的字體、圖形或畫像以納米微雕技術(shù)雕刻在標(biāo)志結(jié)構(gòu)體裝飾面上，獲得防偽層；
其中，所述刻板步驟還包括，選取預(yù)展示防偽圖像，并提取所述預(yù)展示防偽圖像的輪廓；
依據(jù)所述輪廓以及預(yù)展示圖像設(shè)計微雕圖檔格式并制作微雕刻板。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體的加工方法，其特征在于，所述刻板步驟還包括，所述防偽圖檔數(shù)據(jù)包含利用355光波反射投影原理設(shè)置的點狀體反射面角度信息。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體的加工方法，其特征在于，所述微雕步驟還包括，所述防偽層的點狀體以點成線、以線成面，所述防偽層上方設(shè)置有保護層，用于防止點狀體脫落衰減。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體的加工方法，其特征在于，當(dāng)所述防偽層被鐳射激光照射時，所述防偽層可在顯示面反射出防偽信息。
10.一種首飾，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-5中任一項所述的一種納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體，和/或，采用權(quán)利要求6-9中任一項所述的一種納米微雕技術(shù)鐳射防偽標(biāo)志結(jié)構(gòu)體的加工方法制作。
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