[發明專利]一種雙相二維碼及其生成方法在審
| 申請號: | 201910256525.4 | 申請日: | 2019-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN109993256A | 公開(公告)日: | 2019-07-09 |
| 發明(設計)人: | 吳秋蓉;衛榮璋;譚泉光 | 申請(專利權)人: | 廣州真知碼信息科技有限公司 |
| 主分類號: | G06K19/06 | 分類號: | G06K19/06 |
| 代理公司: | 廣州市一新專利商標事務所有限公司 44220 | 代理人: | 王德祥 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市高新技術產業*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 二維碼 雙相 商業推廣 數據區域 校驗 拓展性 手機 存儲 兼容 場景 保留 便利 應用 | ||
1.一種雙相二維碼,其特征在于:所述雙相二維碼包括有QR碼區域、真知碼區域和重疊區域;QR碼區域的左上角、右下角、右上角分別為QR碼定位圖形區域;真知碼區域左下角為真知碼特征圖形區域;
重疊區域為QR碼具有校驗圖形的左下角部分區域與真知碼的右上角部分區域的重疊;重疊區域內,QR碼保留顯示QR碼校驗圖形區域,所述QR碼校驗圖形區域為QR碼校驗圖形或以為QR碼校驗圖形為中心的包括部分QR碼數據的區域;其余重疊區域顯示真知碼區域的內容;
真知碼區域與QR碼區域之間沿真知碼區域的邊界外圍設有白色碼元的分隔區域;
以一個碼元對應為一個計量單位;定義雙相二維碼的以下參數:1為真知碼的邊長,1≥14;L為QR碼的邊長;Y為雙相二維碼的邊長;y為分隔區域右邊界至QR碼右邊界的距離,且等于分隔區域上邊界至QR碼上邊界的距離;Δ1為QR碼下邊界至真知碼下邊界的距離,且等于QR碼左邊界至真知碼左邊界的距離;x為分隔區域的寬度;c為真知碼上邊界至QR碼校驗圖形區域上邊界的距離,且等于真知碼右邊界至QR碼校驗圖形區域右邊界的距離;a為真知碼下邊界至QR碼校驗圖形區域下邊界的距離,且等于真知碼左邊界至QR碼校驗圖形區域左邊界的距離;Δa為a與Δ1的差量,b為QR碼校驗圖形區域的邊長;
雙相二維碼的各項參數需滿足,x≥1,4≥Δa≥0,b≥5,Y=L+Δ1,y=Y-1-x,a=Δa+Δ1,c=1-a-b;L≥2×1-7,L≥29;
v為中間變量,n為QR二維碼的版本號,1≤n≤40,L=4·n+17,3≤Δ1≤14;
2.根據權利要求1所述的一種雙相二維碼,其特征在于:所述QR碼遠離真知碼的兩邊界線的延長線與所述真知碼遠離QR碼的兩邊界線的延長線相交,交線內的區域為雙相二維碼;所述參數Δ1與所述參數y共同定義的區域為補充區域。
3.根據權利要求2所述的一種雙相二維碼,其特征在于:所述雙相二維碼對應補充區域填充有未存儲信息的補充碼元。
4.一種雙相二維碼的生成方法,其特征在于:用于生成權利要求1中的雙相二維碼,包括以下生成步驟:
步驟A,根據二維碼數據,生成真知碼點陣圖和QR碼點陣圖,并計算雙相二維碼點陣圖的各項參數;
步驟B,通過旋轉和/或翻轉,調整真知碼點陣圖和/或QR碼點陣圖的擺放方位至與待合成的目標雙相二維碼點陣圖上的真知碼圖區域和QR碼區域的擺放方位一致;
根據雙相二維碼點陣圖的各項參數,判斷出QR碼點陣圖及真知碼點陣圖上哪些像素點為保留像素點;掃描QR碼點陣圖上保留像素點的灰度值,和真知碼點陣圖上保留像素點的灰度值,并填入雙相二維碼點陣圖中,分隔區域填入白色碼元所對應的灰度值,合成雙相二維碼點陣圖;
步驟C,根據雙相二維碼點陣圖生成由黑白碼元組成的雙相二維碼圖片。
5.根據權利要求4所述的一種雙相二維碼的生成方法,其特征在于:步驟A中,生成QR碼點陣圖和真知碼點陣圖時,將白色碼元對應的點陣圖上的灰度值定義為偶數或奇數;將黑色碼元所對應的點陣圖上的灰度值定義為,與白色碼元對應的灰度值的數值,相鄰的奇數或偶數;所述真知碼點陣圖包括有真知碼特征圖形區域,真知碼封閉邊界圖形區域、真知碼計數圖形區域、真知碼數據區域;所述QR碼點陣圖包括有QR碼定位圖形區域、QR碼校驗圖形區域、QR碼計數圖形區域、QR碼數據區域;不同區域的灰度值的偶數數值之間或奇數數值之間的間隔大于等于3。
6.根據權利要求4所述的一種雙相二維碼的生成方法,其特征在于:步驟B中,所述參數Δ1與所述參數y共同定義的區域為補充區域;所述雙相二維碼點陣圖對應補充區域填充有補充像素點,所述補充像素點在步驟C中生成雙相二維碼圖片時,對應生成補充碼元。
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