[發明專利]多通道相控陣系統通道間的參數校準方法有效
| 申請號: | 201910249712.X | 申請日: | 2019-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN109787693B | 公開(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發明(設計)人: | 章策珉 | 申請(專利權)人: | 成都仕芯半導體有限公司 |
| 主分類號: | H04B17/11 | 分類號: | H04B17/11;H04B17/12;H04B17/21 |
| 代理公司: | 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 劉沙粒 |
| 地址: | 610000 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 通道 相控陣 系統 參數 校準 方法 | ||
1.多通道相控陣系統通道間的參數校準方法,包括基準通道校準步驟和待校準通道校準步驟,其中:
基準通道校準步驟:選擇任一路通道作為基準通道,對基準通道做全狀態校準并生成全狀態控制數據S(A),存儲所述全狀態控制數據S(A);
其特征在于,待校準通道校準步驟之前還設置有校準參數選擇步驟:所需校準的參數為相移量或者衰減量,選擇其中一種作為待校準參數,另一種作為恒定參數;
所述待校準通道校準步驟包括至少一個指定參數組下的校準,每個指定參數組下的校準包括以下步驟:
S01:選擇全狀態控制數據S(A)中任一狀態控制數據對應的指定參數組,確定指定參數組中各指定參數的取值,選擇該狀態控制數據對應的恒定參數的參數值作為恒定參數值;
S02:從基準通道以外的通道中選擇一路未經校準的通道作為待校準通道X,從S(A)中選擇n組狀態控制數據作為待校準通道X的狀態控制數據,其中n≥1,所述n組狀態控制數據對應的指定參數的取值與步驟S01中選擇的指定參數的取值相等,且所述n組狀態控制數據對應的恒定參數的取值與步驟S01中選擇的恒定參數值相等;
令待校準通道X工作時指定參數的取值等于步驟S01中確定的指定參數組中各指定參數的取值,且其恒定參數取值等于步驟S01選擇的恒定參數值;將選擇的n組狀態控制數據分別控制待校準通道X的參數值,分別讀取待校準通道X在n組狀態控制數據控制下的參數值PX1,PX2...PXn;
S03:讀取基準通道在指定參數的取值等于步驟S01中確定的指定參數組中各指定參數的取值,以及恒定參數取值等于選擇的恒定參數值的情況下,在n組狀態控制數據控制下的參數值PA1,PA2...PAn;步驟S02與S03順序不分先后;
S04:計算PAq和PXq的偏差量DAqXq=PXq-PAq,q=1,2,...,n;得到n個偏差量DA1X1、DA2X2...DAnXn;
S05:擬合基準點、DA1X1、DA2X2...DAnXn值中的至少兩個值得到校準函數F(D);
S06:計算待校準通道X的待校準參數全狀態控制數據S(X):基準通道和待校準通道X的狀態控制數據存在關系S(X)=S(A)+F,其中F為校準函數F(D)基于指定參數的取值和恒定參數值,針對待校準通道X生成的校準數據;
S07:多次重復步驟S02-S06,直到所有的通道都得到待校準參數的全狀態控制數據,結束校準。
2.根據權利要求1所述的多通道相控陣系統通道間的參數校準方法,其特征在于,所述步驟S04中,獲得DA1X1、DA2X2...DAnXn后還包括存儲DA1X1、DA2X2...DAnXn的步驟,所存儲的DA1X1、DA2X2...DAnXn可直接用于S05中進行擬合以獲得擬合函數F(D)。
3.根據權利要求1所述的多通道相控陣系統通道間的參數校準方法,其特征在于,所述指定參數組內的指定參數包括溫度、頻率和輸入功率中的一種或多種。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的多通道相控陣系統通道間的參數校準方法,其特征在于,所述全狀態控制數據S(A)為通道內移相器的狀態控制數據和/或可調衰減器的狀態控制數據。
5.根據權利要求4所述的多通道相控陣系統通道間的參數校準方法,其特征在于,所述移相器為模擬移相器。
6.根據權利要求5所述的多通道相控陣系統通道間的參數校準方法,其特征在于,所述移相器的狀態控制數據用于控制數模轉換器,以生成模擬移相器的控制電壓。
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