[發(fā)明專(zhuān)利]一種顯示基板及其制備方法、顯示面板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910245783.2 | 申請(qǐng)日: | 2019-03-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109962078B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-02-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡迎賓;趙策;丁遠(yuǎn)奎;宋威;倪柳松;王海濤;丁瑞;閆梁臣 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/12 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 230012 *** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 及其 制備 方法 面板 | ||
本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示基板及其制備方法、顯示面板,涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,改善第二圖案斷線(xiàn)的問(wèn)題。該顯示基板包括襯底、依次層疊設(shè)置于襯底上的包括多個(gè)第一圖案的第一功能層、絕緣層、輔助層、以及包括多個(gè)第二圖案的第二功能層;輔助層包括第一過(guò)孔,絕緣層包括與第一過(guò)孔一一對(duì)應(yīng)的第二過(guò)孔,第二圖案通過(guò)第一過(guò)孔和第二過(guò)孔與第一圖案接觸;沿輔助層指向襯底的方向,第一過(guò)孔的橫截面和第二過(guò)孔的橫截面均逐漸減小,且第一過(guò)孔的底面在襯底上的正投影覆蓋第二過(guò)孔的頂面在襯底上的正投影;第一過(guò)孔的側(cè)壁與水平方向的夾角、第二過(guò)孔的側(cè)壁與水平方向的夾角均小于60°。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種顯示基板及其制備方法、顯示面板。
背景技術(shù)
隨著顯示面板的更新迭代,消費(fèi)者對(duì)顯示面板的分辨率要求越來(lái)越高(例如8K)。
目前,顯示面板常采用頂柵型(Top Gate)薄膜晶體管。為了提高顯示面板的分辨率,可減小導(dǎo)電層的線(xiàn)寬,但同時(shí)還需增加導(dǎo)電層的厚度,以滿(mǎn)足導(dǎo)電層的導(dǎo)電性能,進(jìn)一步的,用于覆蓋導(dǎo)電層的絕緣層的厚度也隨之增加,從而增加了間隔的兩層之間通過(guò)過(guò)孔搭接時(shí)的工藝難度。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例提供一種顯示基板及其制備方法、顯示面板,可改善第二圖案斷線(xiàn)的問(wèn)題。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
第一方面,提供一種顯示基板,具有顯示區(qū),所述顯示區(qū)包括非透光區(qū);所述顯示基板包括襯底、沿所述襯底的厚度方向依次層疊設(shè)置于所述襯底上的包括多個(gè)第一圖案的第一功能層、絕緣層、輔助層、以及包括多個(gè)第二圖案的第二功能層;所述第一功能層、所述絕緣層、以及所述第二功能層位于所述顯示區(qū);所述輔助層包括第一過(guò)孔,所述絕緣層包括與所述第一過(guò)孔一一對(duì)應(yīng)的第二過(guò)孔,所述第二圖案通過(guò)所述第一過(guò)孔和所述第二過(guò)孔與所述第一圖案接觸;沿所述輔助層指向所述襯底的方向,所述第一過(guò)孔的橫截面和所述第二過(guò)孔的橫截面均逐漸減小,且所述第一過(guò)孔的底面在所述襯底上的正投影覆蓋所述第二過(guò)孔的頂面在所述襯底上的正投影;所述第一過(guò)孔的側(cè)壁與水平方向的夾角、所述第二過(guò)孔的側(cè)壁與水平方向的夾角均小于60°;在所述輔助層的材料包括導(dǎo)電材料的情況下,所述輔助層包括多個(gè)間隔設(shè)置、且與所述第二圖案一一對(duì)應(yīng)的導(dǎo)電圖案,所述導(dǎo)電圖案位于所述非透光區(qū),所述第一過(guò)孔與所述導(dǎo)電圖案一一對(duì)應(yīng)、且位于所述導(dǎo)電圖案中;在所述輔助層的材料包括絕緣材料的情況下,所述輔助層平鋪于所述顯示區(qū),且所述輔助層的厚度小于所述絕緣層的厚度。
可選的,所述第一過(guò)孔中靠近所述襯底一側(cè)的邊沿與所述第二過(guò)孔中背離所述襯底一側(cè)的邊沿重合。
可選的,所述輔助層的材料包括導(dǎo)電材料;所述輔助層的厚度范圍為所述絕緣層的厚度范圍為和/或,所述導(dǎo)電圖案的側(cè)壁與設(shè)置于該導(dǎo)電圖案中的所述第一過(guò)孔的側(cè)壁之間的間距范圍為5~20μm。
可選的,所述第一圖案為有源圖案,所述第二圖案包括源極圖案和漏極圖案;所述顯示基板還包括設(shè)置于所述襯底與所述第一功能層之間金屬遮光層和緩沖層,所述金屬遮光層位于所述非透光區(qū);所述金屬遮光層包括與所述有源圖案一一對(duì)應(yīng)的多個(gè)金屬遮光圖案,且所述金屬遮光圖案在所述襯底上的正投影覆蓋與其對(duì)應(yīng)的所述有源圖案在所述襯底上的正投影,所述第一過(guò)孔和所述第二過(guò)孔還設(shè)置于所述金屬遮光圖案在所述襯底上的正投影超出所述有源圖案在所述襯底上的正投影的區(qū)域;所述緩沖層包括第三過(guò)孔,所述漏極圖案通過(guò)所述第一過(guò)孔、所述第二過(guò)孔、以及所述第三過(guò)孔和與其對(duì)應(yīng)的所述金屬遮光圖案電連接;沿所述輔助層指向所述襯底的方向,所述第三過(guò)孔的橫截面逐漸減小,且所述第二過(guò)孔的底面在所述襯底上的正投影覆蓋所述第三過(guò)孔的頂面在所述襯底上的正投影,所述第三過(guò)孔的側(cè)壁與水平方向的夾角小于60°。
進(jìn)一步可選的,還包括設(shè)置于所述第一功能層與所述絕緣層之間的柵極導(dǎo)電層,所述柵極導(dǎo)電層包括與所述有源圖案一一對(duì)應(yīng)的多個(gè)柵極圖案;在所述輔助層的材料包括導(dǎo)電材料的情況下,所述導(dǎo)電圖案在所述襯底上的正投影與所述柵極圖案在所述襯底上的正投影無(wú)重疊。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司,未經(jīng)合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910245783.2/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線(xiàn)程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





