[發明專利]高溫飛行顆粒溫度、速度、粒徑的原位測量方法在審
| 申請號: | 201910240464.2 | 申請日: | 2019-03-27 |
| 公開(公告)號: | CN109990834A | 公開(公告)日: | 2019-07-09 |
| 發明(設計)人: | 許傳龍;劉煜東;張彪;李健 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | G01D21/02 | 分類號: | G01D21/02 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 211100 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 粒徑 顆粒軌跡 圖像 原位測量 運動軌跡 飛行 顆粒運動軌跡 單個顆粒 飛行過程 所在平面 物理參數 相機光軸 相機拍攝 中顆粒 拍攝 可用 像素 躍遷 發光 測量 垂直 觀測 曝光 | ||
1.一種高溫飛行顆粒溫度、速度、粒徑的原位測量方法,其特征在于,步驟為:
步驟一、利用相機拍攝高溫飛行顆粒的圖像;拍攝時,相機光軸方向與顆粒運動軌跡所在平面盡量垂直;
步驟二、根據曝光時間對拍攝的圖像進行處理,得到圖像中顆粒的運動軌跡;
步驟三、識別運動軌跡的中心位置和運動方向、利用沿運動方向的圖像強度躍遷計算軌跡的像素長度;
步驟四、計算各物理參數:
顆粒軌跡的溫度:
其中,為圖像中所有顆粒軌跡運動覆蓋像素的R通道強度平均值;為圖像中所有顆粒軌跡運動覆蓋像素的G通道強度平均值;為圖像中所有顆粒軌跡運動覆蓋像素的R和G通道的強度分別相加后的比值;系數k1,k2和k3利用黑體爐標定進行多項式擬合求解;
顆粒軌跡的速度:
其中,V是顆粒的運動速度;L是顆粒運動軌跡在圖像上的長度;texp是相機的曝光時間;M是圖像放大率;
顆粒軌跡的直徑:
其中,Dobj是物體的實際尺寸,Dimg是顆粒運動軌跡的寬度。
2.根據權利要求1所述的原位測量方法,其特征在于,所述步驟一中,利用相機拍攝的圖像為RAW格式圖像。
3.根據權利要求2所述的原位測量方法,其特征在于,所述步驟二中,采集到的RAW圖像解碼進行去馬賽克運算,使用線性插值算法,獲得小球軌跡的線性彩色圖像。
4.根據權利要求1-3任一所述的原位測量方法,其特征在于,利用黑體爐標定獲取系數k1,k2和k3的方法是:
將相機安裝在三腳架上,固定在正對黑體爐的位置,相機與黑體爐出口高度相同,距離與測量時的物距相同;
按要求設置相機曝光時間,調節黑體爐溫度,將溫度調節為600℃,待溫度穩定后,對黑體爐采集5張圖像;
將黑體爐溫度設置為600℃到1500℃,間隔為50℃,每個溫度點都按照上一步的方法進行采集;
將采集的圖像保存到上位機中,利用標定程序處理圖像,得到參數曲線
標定程序的處理過程如下:
a)將采集到的RAW圖像解碼進行去馬賽克運算,使用線性插值算法,不使用任何圖像增強計算,獲得黑體爐的線性彩色圖像;
b)輸入每個黑體爐圖像對應的黑體爐設定溫度;
c)輸入圖像中黑體爐所在像素位置,裁剪圖像;
d)將同一溫度所有裁剪圖像的像素R和G通道的強度分別相加后計算比值利用二次擬合,獲得溫度與色彩比值的關系
5.根據權利要求4所述的原位測量方法,其特征在于,圖像放大率M的計算方法是:
將相機安裝在三腳架上,保持相機光軸水平;將標記有刻度的標定板垂直相機光軸放置,相機光軸穿過標定板中心,標定板到相機的距離與測量時的物距相同;
提高相機曝光時間,使標定板成像清晰,使用手動曝光模式,所有自動功能關閉或者設置為無;
拍攝標定板圖像,測量標定板特定刻度間的實際距離;
測量圖像中相應刻度間的像素距離,根據像素尺寸求解其成像尺寸,計算圖像放大率M。
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