[發(fā)明專利]一種調(diào)控粗化速率的增原子擴(kuò)散模型有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910239046.1 | 申請日： | 2019-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN109913834B | 公開（公告）日： | 2020-12-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 胡超權(quán);畢超斌;文懋;鄭偉濤 | 申請（專利權(quán)）人： | 吉林大學(xué) |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/16;C23C14/08;G06F30/20 |
| 代理公司： | 北京和聯(lián)順知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11621 | 代理人： | 段紅玉 |
| 地址： | 130000 吉*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 調(diào)控 速率 原子 擴(kuò)散 模型 | ||
1.一種調(diào)控粗化速率的增原子擴(kuò)散模型，其特征在于，包括以下步驟：
(1)通過臺階儀測量膜厚為d，通過原子力顯微鏡測量均方根粗糙度為RMS；
(2)通過計(jì)算RMS-d的直線的斜率，斜率為粗化速率νR；
(3)將步驟(1)中的RMS和d導(dǎo)入Gwyddion軟件中，通過Gwyddion軟件模擬表面形貌；
(4)通過Gwyddion軟件模擬上可知薄膜表面的突出尺寸數(shù)據(jù)h和s，h為凸起在垂直方向的尺寸，s為凸起在水平方向的尺寸；
(5)選取薄膜進(jìn)行沉積，隨著增原子的不斷沉積，當(dāng)薄膜厚度增加到d0+Δd時，凸起在垂直方向的尺寸為h0+Δh，在水平方向的尺寸為s0+Δs，均方根粗糙度為RMS0+ΔRMS，通過Gwyddion軟件模擬計(jì)算出Δd、Δh、ΔRMS和Δs，通過計(jì)算ΔRMS-Δd直線斜率，得出薄膜粗化速率νR，計(jì)算上坡擴(kuò)散概率＝Δh/h0、下坡擴(kuò)散概率＝Δs/s0，計(jì)算上坡/下坡擴(kuò)散概率比δ＝(Δh/h0)/(Δs/s0)，通過公式νR＝k·δ，求出k，可知表面粗化速率νR正比于上坡/下坡擴(kuò)散概率比。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種調(diào)控粗化速率的增原子擴(kuò)散模型，其特征在于：所述薄膜選用任何一種薄膜即可。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
