[發(fā)明專利]利用共聚焦激光掃描顯微系統(tǒng)對(duì)微納米級(jí)介質(zhì)波導(dǎo)或臺(tái)階型結(jié)構(gòu)側(cè)壁角的無損測(cè)量方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910235725.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-03-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109884020B | 公開(公告)日: | 2021-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫德貴;尚鴻鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長(zhǎng)春理工大學(xué);南京帝特鵬光子集成技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/64 | 分類號(hào): | G01N21/64;G01N21/84;G01N21/01 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)春眾邦菁華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 22214 | 代理人: | 王丹陽 |
| 地址: | 130022 吉林*** | 國(guó)省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 利用 聚焦 激光 掃描 顯微 系統(tǒng) 納米 介質(zhì)波導(dǎo) 臺(tái)階 結(jié)構(gòu) 側(cè)壁 無損 測(cè)量方法 | ||
1.利用共聚焦激光掃描顯微系統(tǒng)對(duì)微納米級(jí)介質(zhì)波導(dǎo)或臺(tái)階型結(jié)構(gòu)側(cè)壁角的無損測(cè)量方法,其特征在于,該方法使用的共聚焦激光掃描顯微系統(tǒng)包括:短波長(zhǎng)激光器、激光擴(kuò)束透鏡、二向色鏡、二向色鏡控制器、大口徑物鏡、針孔光闌、過濾器、光電倍增管和計(jì)算機(jī);該無損測(cè)量方法包括如下步驟:
步驟一:短波長(zhǎng)激光器發(fā)出的激光經(jīng)由激光擴(kuò)束透鏡擴(kuò)束,通過二向色鏡反射到大口徑物鏡后聚焦在被測(cè)物體內(nèi)部,形成一個(gè)納米級(jí)大小的光斑;所述光斑攜帶被檢測(cè)區(qū)域信息反射回大口徑物鏡和二向色鏡后透射通過針孔光闌成像,通過過濾器后被光電倍增管所接收,存儲(chǔ)到計(jì)算機(jī)中,其中所述針孔光闌設(shè)置在像點(diǎn)位置,孔徑小于艾里斑單元;
步驟二:在被測(cè)物體內(nèi)設(shè)定一個(gè)包含所有波導(dǎo)或者臺(tái)階結(jié)構(gòu)的平面,通過二向色鏡控制器控制二向色鏡做俯仰和左右運(yùn)動(dòng),使光斑在所述平面附近從左到右進(jìn)行掃描成像,然后調(diào)節(jié)二向色鏡控制器使二向色鏡移動(dòng),掃描深度以納米級(jí)步長(zhǎng)向上移動(dòng),進(jìn)行第二次掃描成像……重復(fù)以上步驟,直至掃描成像覆蓋所述平面,形成圖像存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)中;
步驟三:當(dāng)步驟二所述光斑聚焦在所述波導(dǎo)或者臺(tái)階結(jié)構(gòu)的側(cè)壁上時(shí),由于側(cè)壁成一定角度導(dǎo)致所述光斑反射光不能通過所述針孔光闌、過濾器和光電倍增管成像,所述波導(dǎo)或者臺(tái)階結(jié)構(gòu)的側(cè)壁成像為空白;掃描完成后,通過在成像重建圖上,在上下兩條線的同側(cè)找到轉(zhuǎn)角的像點(diǎn),兩點(diǎn)的連線與上線和下線成的傾角為重建圖中得到的側(cè)壁角的上角和下角;
步驟四:當(dāng)光電倍增管接收到光斑反射的成像點(diǎn)時(shí),光電倍增管的振動(dòng)和圖像重建時(shí)的噪聲會(huì)影響重建圖中兩個(gè)側(cè)壁角的成像質(zhì)量,使測(cè)得的側(cè)壁角存在誤差,將圖像重建時(shí)獲得的側(cè)壁角的數(shù)值基礎(chǔ)上減掉計(jì)算得到的固有誤差值就是側(cè)壁角的測(cè)量值,實(shí)現(xiàn)了利用共聚焦激光掃描顯微系統(tǒng)對(duì)微納米級(jí)介質(zhì)波導(dǎo)或臺(tái)階型結(jié)構(gòu)側(cè)壁角的無損測(cè)量方法。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用共聚焦激光掃描顯微系統(tǒng)對(duì)微納米級(jí)介質(zhì)波導(dǎo)或臺(tái)階型結(jié)構(gòu)側(cè)壁角的無損測(cè)量方法,其特征在于,計(jì)算所述誤差的過程如下:軸向艾里斑單元大小在成像點(diǎn)和重建圖中分別為FWHMill,ax和FWHMdet,ax,
其中,λexc為激光光源的波長(zhǎng),n為被測(cè)材料的折射率,NA為大口徑物鏡的數(shù)值孔徑,
成像斑層數(shù)通過Mill,cn=h/FWHMill,ax計(jì)算獲得,h為被測(cè)物的高度值,
于是從成像斑單元到重建圖的高度變化則為:
δhcn=(FWHMdet,ax-FWHMill,ax)·Mill,cn,
從而獲得了從成像圖形到重建圖形的角度誤差則為:
φ表示側(cè)壁角測(cè)量值。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用共聚焦激光掃描顯微系統(tǒng)對(duì)微納米級(jí)介質(zhì)波導(dǎo)或臺(tái)階型結(jié)構(gòu)側(cè)壁角的無損測(cè)量方法,其特征在于,步驟一所述的二向色鏡以10納米步長(zhǎng)向上運(yùn)動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用共聚焦激光掃描顯微系統(tǒng)對(duì)微納米級(jí)介質(zhì)波導(dǎo)或臺(tái)階型結(jié)構(gòu)側(cè)壁角的無損測(cè)量方法,其特征在于,所述步驟二中的掃描區(qū)域?yàn)?00μm2。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用共聚焦激光掃描顯微系統(tǒng)對(duì)微納米級(jí)介質(zhì)波導(dǎo)或臺(tái)階型結(jié)構(gòu)側(cè)壁角的無損測(cè)量方法,其特征在于,步驟一所述的短波長(zhǎng)激光器的波長(zhǎng)范圍為405-450nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用共聚焦激光掃描顯微系統(tǒng)對(duì)微納米級(jí)介質(zhì)波導(dǎo)或臺(tái)階型結(jié)構(gòu)側(cè)壁角的無損測(cè)量方法,其特征在于,步驟二可以替換為:在被測(cè)物體內(nèi)設(shè)定一個(gè)最少包含一個(gè)完整波導(dǎo)或者一個(gè)完整臺(tái)階結(jié)構(gòu)的立體空間,通過二向色鏡控制器控制二向色鏡做俯仰、前后和左右運(yùn)動(dòng),使光斑在所述立體空間附近從左到右,從前到后進(jìn)行掃描成像,然后調(diào)節(jié)二向色鏡控制器使二向色鏡移動(dòng),掃描深度以納米級(jí)步長(zhǎng)向上移動(dòng),進(jìn)行第二次掃描成像……重復(fù)以上步驟,直至掃描成像覆蓋所述立體空間,形成圖像存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)中。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
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G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





