[發明專利]偏光板及其制造方法

在審

• 申請號: 201910232210.6
• 申請日: 2019-03-26
• 公開（公告）號: CN109946783A
• 公開（公告）日: 2019-06-28
• 發明（設計）人: 俞剛;吳梓平;李玎
• 申請（專利權）人: 惠州市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02B1/14
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本發明公開一種偏光板及其制造方法，所述偏光板包括:一偏光子層,以及一硬化涂層位于所述偏光子層上，與所述偏光子層直接接觸。本發明提供一種偏光板的制造方法，包括：S10提供一偏光子層；S20將一硬化涂層材料附著于所述偏光子層的上表面，形成一硬化涂層；S30提供一相位差板，利用一膠水將所述相位差板貼合至已涂布有所述硬化涂層的所述偏光子層的下表面，形成一膠水層位于所述偏光子層及所述相位差板之間，得到所述偏光板。依據本發明還提供另一種偏光板的制造方法，包括：S11提供一偏光子層；S21提供一相位差板，利用一膠水將所述相位差板貼合至所述偏光子層的下表面，形成一膠水層位于所述偏光子層及所述相位差板之間；以及S31將一硬化涂層材料附著于已貼合所述相位差板的所述偏光子層的上表面，形成一硬化涂層，得到所述偏光板。

技術領域

本發明是有關于一種偏光板及其制造方法，特別是有關于一種簡化材料結構的偏光板及其制造方法。

背景技術

目前業界常用的偏光板10材料的結構如圖1所示，包括：表面處理層11、第一保護層12、第一膠水層12a、偏光子層薄膜13、第二膠水層12b、相位差層14、以及壓敏膠層15。其中，表面處理層11為涂布在第一保護層12上的一層樹酯物質，經過一些特定功能的處理加工，包括下列至少一者：抗眩光(AG)處理、硬化(HC)處理、低反射(LR)處理、以及抗反射(AR)處理等。習知的第一保護層12一般為樹酯薄膜，包括：三醋酸纖維素酯(TAC)及/或對苯二甲酸乙二醇酯(PET)。常用的偏光子層薄膜13一般為經過處理的聚乙烯醇(PVA)薄膜。目前業界慣用的相位差層14一般為樹酯薄膜，包括：三醋酸纖維素酯(TAC)及/或亞克力樹酯(PMMA)及/或聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等。壓敏膠層15一般為丙烯酸樹酯。

由于習知的工藝、技術、材料特性的限制，該結構中表面處理層需要先涂布在第一保護層表面，再與第二保護層一起貼附在偏光子兩側，起到保護和涂層的相關功能。

據此，研究開發一種具有新結構以減少材料使用，簡化材料結構，降低成本，達到更容易實現輕薄化之偏光板，乃業界所需。

發明內容

本發明提出了一種偏光板，將硬化涂層直接涂布在偏光子層上，以同時起到保護和/或功能涂層的作用，省去了過去偏光板中的表面處理層及一層膠水層，減少材料使用并且簡化了制程，得到材料結構相對簡單的偏光板，除了可降低成本，更容易實現輕薄化。

有鑒于此，本發明提供了一種偏光板的制造方法，包括：S10提供一偏光子層；S20將一硬化涂層材料附著于所述偏光子層的上表面，形成一硬化涂層；S30提供一相位差板，利用一膠水將所述相位差板貼合至已涂布有所述硬化涂層的所述偏光子層的下表面，形成一膠水層位于所述偏光子層及所述相位差板之間，得到所述偏光板。

本發明還提供了另一種偏光板的制造方法，包括：S11提供一偏光子層；S21提供一相位差板，利用一膠水將所述相位差板貼合至所述偏光子層的下表面，形成一膠水層位于所述偏光子層及所述相位差板之間；以及S31將一硬化涂層材料附著于已貼合所述相位差板的所述偏光子層的上表面，形成一硬化涂層，得到所述偏光板。

在本發明的一實施例中，步驟S20還包括：將所述硬化涂層材料附著于所述偏光子層的上表面后，再對所述硬化涂層材料進行一固化處理，形成一硬化涂層，其中所述固化處理的方法包括下列至少一種：UV光照射和加熱。

在本發明的一實施例中，步驟S20還包括：在所述硬化涂層材料中摻雜散射粒子，或者在涂布過程中，通過壓印、轉印、及凸版印刷中至少一種方式，使所述硬化涂層具有一非平整表面。

在本發明的一實施例中，所述硬化涂層材料包括：光固化聚合物、熱固化聚合物、UV膠水、以及氧化硅中至少一者，且所述硬化涂層材料在進行所述固化處理前的厚度為0.5～500um，以及所述硬化涂層材料在進行所述固化處理后的厚度為0.5～150um。