[發明專利]光束落點位置反饋裝置有效
| 申請號: | 201910225912.1 | 申請日: | 2019-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN109901631B | 公開(公告)日: | 2022-03-08 |
| 發明(設計)人: | 唐順興;朱健強;李學春;朱寶強;楊琳;姜秀青;郭亞晶;樊全堂;楊朋千;劉志剛;姜有恩 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號: | G05D3/12 | 分類號: | G05D3/12 |
| 代理公司: | 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 張寧展 |
| 地址: | 201800 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光束 落點 位置 反饋 裝置 | ||
1.一種光束落點位置反饋裝置,其特征在于,該裝置包括模擬光源(10)、光束傳輸系統(20)、對接面成像光學系統(30)和數據采集分析系統(40);傳輸對接面(301)與瞄準目標面(101)是光束傳輸系統(20)的一對共軛面;待反饋光束(201)依次經過傳輸對接面(301)和光束傳輸系統(20)到達瞄準目標面(101),對接面成像光學系統(30)對待反饋光束(201)在傳輸對接面(301)的光斑圖像成像,由數據采集分析系統(40)記錄該圖像并進行分析;模擬光源(10)發出的模擬光束(102)依次經過瞄準目標面(101)和光束傳輸系統(20)到達傳輸對接面(301),對接面成像光學系統(30)對模擬光束(102)在傳輸對接面(301)的光斑圖像成像,由數據采集分析系統(40)記錄該圖像并進行分析;通過分析,獲得光束落點相對位置信息,用于判斷光束落點是否滿足控制要求并提供反饋;所述的模擬光源(10)位于瞄準目標面(101)內。
2.根據權利要求1所述的光束落點位置反饋裝置,其特征在于,所述的模擬光源可以是發光點或者發光面,也可以是經其他光源照明的具有位置標志功能的物體。
3.根據權利要求1所述的光束落點位置反饋裝置,其特征在于,所述的光束傳輸系統(20)既可將待反饋光束(201)傳輸到瞄準目標面(101),也可以將模擬光束(102)傳輸到傳輸對接面(301)。
4.根據權利要求1所述的光束落點位置反饋裝置,其特征在于,所述的對接面成像光學系統(30)可以利用正向通過傳輸對接面(301)的待反饋光束(102)和反向通過傳輸對接面(301)的模擬光束(102)的采樣光在傳輸對接面(301)實現正向和反向同時成像。
5.根據權利要求1所述的光束落點位置反饋裝置,其特征在于,所述的數據采集分析系統(40)包括圖像采集系統(401)和數據處理系統(402);所述的圖像采集系統(401)記錄待反饋光束(201)和模擬光束(102)在傳輸對接面(301)上的光斑圖像;所述的數據處理系統(402)根據圖像采集系統(401)采集的圖像進行圖像處理和分析,通過計算待反饋光束(201)和模擬光束(102)在傳輸對接面(301)上的光斑圖像的中心位置偏差,判斷光束落點是否滿足控制要求并提供反饋。
6.根據權利要求1所述的光束落點位置反饋裝置,其特征在于,數據處理系統(402)對采集的圖像進行分析,同時獲得待反饋光束與模擬光在傳輸對接面的光斑中心坐標位置,并計算其相對位置關系,該相對位置是一個二維向量,笛卡爾坐標系下可表示為(x,y),根據控制要求,其相對位置關系目標值為(x0,y0),計算二者的差值:
將dx和dy反饋給控制系統可供其計算運動控制量。
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