[發(fā)明專利]一種黑硅鈍化用反應(yīng)裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910219119.0 | 申請日: | 2019-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN111725351A | 公開(公告)日: | 2020-09-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何其金;張靖;何飛 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇德潤光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京科家知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 艾秀麗 |
| 地址: | 225600 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鈍化 反應(yīng) 裝置 | ||
1.一種黑硅鈍化用反應(yīng)裝置,包括反應(yīng)罐(1),其特征在于:所述反應(yīng)罐(1)的左右兩側(cè)均固定安裝有站腳(2),所述反應(yīng)罐(1)的底部固定安裝有安裝罩(3),所述安裝罩(3)的內(nèi)部固定安裝有攪拌電機(jī)(4),所述攪拌電機(jī)(4)的輸出軸固定安裝有一端貫穿并延伸到反應(yīng)罐(1)內(nèi)部的攪拌軸(5),所述攪拌軸(5)的左右兩側(cè)且位于反應(yīng)罐(1)內(nèi)部均固定安裝有攪拌葉(6),所述反應(yīng)罐(1)的內(nèi)腔左右側(cè)壁均固定安裝有卡塊(7),所述卡塊(7)的頂部活動安裝有定位塊(8),兩個所述定位塊(8)相對的一側(cè)均與放置箱(9)固定連接,所述放置箱(9)的底部開設(shè)有一端貫穿并延伸到放置箱(9)內(nèi)部的流通孔(10),所述放置箱(9)的內(nèi)壁右側(cè)固定安裝有數(shù)量為三個的盛板(11),所述盛板(11)的頂部開設(shè)有一端貫穿并延伸到盛板(11)底部的透水孔(12),所述放置箱(9)的左側(cè)開設(shè)有一端貫穿并延伸到放置箱(9)內(nèi)部的門孔(13),所述門孔(13)的內(nèi)部嵌設(shè)有活動門(14),所述放置箱(9)的頂部固定安裝有手提把(15)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種黑硅鈍化用反應(yīng)裝置,其特征在于:所述反應(yīng)罐(1)為玻璃罐,所述反應(yīng)罐(1)的內(nèi)壁厚度為三厘米,所述反應(yīng)罐(1)的外部為磨砂涂層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種黑硅鈍化用反應(yīng)裝置,其特征在于:所述站腳(2)包括站桿和墊塊,所述站桿的底部固定安裝有墊塊,所述站桿為不銹鋼桿,所述墊塊為橡膠墊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種黑硅鈍化用反應(yīng)裝置,其特征在于:所述安裝罩(3)為銅鋁合金罩,所述安裝罩(3)的內(nèi)壁左右兩側(cè)均固定安裝有一端與攪拌電機(jī)(4)相接觸的夾持片。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種黑硅鈍化用反應(yīng)裝置,其特征在于:所述卡塊(7)和定位塊(8)均為環(huán)形,所述卡塊(7)和定位塊(8)均為鎳基合金,所述放置箱(9)為陶瓷箱。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種黑硅鈍化用反應(yīng)裝置,其特征在于:所述流通孔(10)的直徑為一厘米,所述透水孔(12)的直徑為零點(diǎn)六厘米,所述盛板(11)為陶瓷板。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





