[發(fā)明專(zhuān)利]靶

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910218002.0
• 申請(qǐng)日: 2019-03-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111719122A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 錢(qián)鐵威
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 廣東太微加速器有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/34
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/34
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

本發(fā)明提出了一種靶，包括管形的靶體、管形的承載體及安裝柱，承載體套設(shè)在安裝柱上，靶體套設(shè)在承載體上，所述的承載體的內(nèi)部設(shè)有冷卻腔體，所述的承載體上設(shè)有冷卻液進(jìn)口和冷卻液出口，冷卻液進(jìn)口和冷卻液出口分別與冷卻腔體連通設(shè)置，所述的靶體可繞其中心軸線(xiàn)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，所述的靶體可沿其中心軸線(xiàn)方向進(jìn)行移動(dòng)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種靶。

背景技術(shù)

靶可以理解為，表示陰極濺射系統(tǒng)中被濺射的材料。過(guò)去所使用的大部分濺射靶是構(gòu)造為呈圓形的或呈矩形的所謂的平面靶。然而平面靶具有如下缺點(diǎn)：構(gòu)成該平面靶的材料的僅約30％到40％得到有效濺射，其有效利用率低，使用壽命短。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)背景技術(shù)中指出的問(wèn)題，本發(fā)明提出一種靶，該整體為管形，并能進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)和移動(dòng)，且其內(nèi)部配置有冷卻結(jié)構(gòu)，提高了靶的利用率，延長(zhǎng)了其使用壽命。

本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：

一種靶，包括管形的靶體、管形的承載體及安裝柱，承載體套設(shè)在安裝柱上，靶體套設(shè)在承載體上，所述的承載體的內(nèi)部設(shè)有冷卻腔體，所述的承載體上設(shè)有冷卻液進(jìn)口和冷卻液出口，冷卻液進(jìn)口和冷卻液出口分別與冷卻腔體連通設(shè)置。

本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為，所述的靶體可繞其中心軸線(xiàn)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。

本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為，所述的承載體與安裝柱固定連接，安裝柱上連接有驅(qū)動(dòng)其轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置一。

本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為，所述的承載體與安裝柱形成可轉(zhuǎn)動(dòng)連接，還包括一驅(qū)動(dòng)承載體轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。

本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為，所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括齒輪一、齒輪二、驅(qū)動(dòng)裝置二，所述的齒輪一與承載體同軸且聯(lián)動(dòng)設(shè)置，齒輪二與齒輪一嚙合，驅(qū)動(dòng)裝置二與齒輪二連接用于驅(qū)動(dòng)齒輪二轉(zhuǎn)動(dòng)。

本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為，所述的靶體可沿其中心軸線(xiàn)方向進(jìn)行移動(dòng)。

本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為，所述的承載體與安裝柱固定連接，安裝柱上連接有牽引其沿其軸線(xiàn)方向移動(dòng)的牽引機(jī)構(gòu)一。

本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為，所述的承載體與安裝柱在安裝柱軸線(xiàn)方向形成滑動(dòng)連接，還包括牽引機(jī)構(gòu)二，牽引機(jī)構(gòu)二與承載體連接用于牽引承載體在安裝柱上滑動(dòng)。

一種靶，包括管形的靶體和安裝柱，靶體套設(shè)在安裝柱上，所述的靶體可繞其中心軸線(xiàn)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，所述的靶體可沿其中心軸線(xiàn)方向進(jìn)行移動(dòng)。

本發(fā)明的有益效果：

本發(fā)明提供的靶，其結(jié)構(gòu)為管形，使用時(shí)通過(guò)對(duì)管形靶進(jìn)行自轉(zhuǎn)和上下移動(dòng)的調(diào)節(jié)，使靶的表面能獲得更均勻的蝕刻效果，且通過(guò)調(diào)節(jié)靶體的位置蝕刻區(qū)域基本能覆蓋整個(gè)靶的表面，并在承載體上配置冷卻結(jié)構(gòu)，使蝕刻時(shí)產(chǎn)生的熱量能得到快讀的冷卻，提高了靶材的利用率，延長(zhǎng)了其使用壽命。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式