[發明專利]脂環族二酐單體及高透明低介電常數聚酰亞胺薄膜在審
| 申請號: | 201910214276.2 | 申請日: | 2019-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN109912616A | 公開(公告)日: | 2019-06-21 |
| 發明(設計)人: | 曹春;李偉杰;周光大;林建華 | 申請(專利權)人: | 浙江福斯特新材料研究院有限公司 |
| 主分類號: | C07D493/04 | 分類號: | C07D493/04;C07D307/89;C07D307/93;C08G73/10;C08J5/18;C08L79/08 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人: | 邱啟旺 |
| 地址: | 311305 浙江省杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聚酰亞胺薄膜 低介電常數 脂環族二酐 高透明 脂環族聚酰亞胺 前體溶液 溶解 非質子性極性溶劑 氮氣 微電子工業 惰性氣體 二胺單體 非質子性 極性溶液 介電常數 介電損耗 力學性能 透光性能 應力消除 應用要求 酰亞胺化 基材 制備 薄膜 | ||
1.一種脂環族二酐單體,其特征在于,它具有如下(1)~(6)所示任意一種結構:
其中,R1為如下結構(7)~(15)中的任意一種:
其中,1≤n≤6。
2.一種高透明低介電常數聚酰亞胺薄膜,其特征在于,通過以下方法制備得到:
(1)制備脂環族聚酰亞胺前體溶液:將二胺單體充分溶解于非質子性極性溶劑中,之后加入溶解有脂環族二酐單體的非質子性極性溶液,并在氮氣或惰性氣體的保護下于-10~35℃范圍內反應0.5-6h,得到脂環族聚酰亞胺前體溶液。所述脂環族二酐單體和二胺單體的摩爾比為1:0.85-1.15之間,且脂環族聚酰亞胺前體溶液中,脂環族二酐單體和二胺單體的總質量分數為10-35wt%。所述脂環族聚酰胺酸前體溶液的粘度為1000-40000cp,優選為2000-20000cp。
(2)涂膜:將脂環族聚酰亞胺前體溶液涂布于基材上。
(3)酰亞胺化:在氮氣氛圍下,將涂膜后的基材于50-80℃干燥8-24h;之后加熱至150℃,保溫30-90min;再加熱至200℃,保溫30-90min;再加熱至250℃,保溫30-90min;最后,加熱至340-360℃,保溫5-60min。
(4)應力消除:控制降溫速率為1-10℃/min,直到室溫。
3.根據權利要求2所述高透明低介電常數聚酰亞胺薄膜,其特征在于,所述二胺單體由1,4-二胺基苯、4,4’-二胺基聯苯、4,4-二氨基二苯醚、4,4’-二氨基二苯酮、4,4’-二氨基二苯醚二苯砜、4,4’-二氨基二苯醚雙酚A、2,2’-二甲基-4,4’-二氨基聯苯的一種或多種按任意配比混合組成。
4.根據權利要求2所述高透明低介電常數聚酰亞胺薄膜,其特征在于,所述非質子性極性溶劑由N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、二乙二醇單甲基醚中的一種或多種按任意配比混合組成。
5.根據權利要求2所述高透明低介電常數聚酰亞胺薄膜,其特征在于,所述基材包括銅、鋁、玻璃等。
6.根據權利要求2所述高透明低介電常數聚酰亞胺薄膜,其特征在于,所述涂布的工藝包括旋涂法、噴涂法、浸漬法、流延法等。
7.根據權利要求2所述高透明低介電常數聚酰亞胺薄膜,其特征在于,所述步驟1中,所述反應溫度優選為5-30℃,反應時間優選為1-2h。
8.根據權利要求7所述高透明低介電常數聚酰亞胺薄膜,其特征在于,反應溫度優選為室溫20-25℃。
9.根據權利要求2所述高透明低介電常數聚酰亞胺薄膜,其特征在于,所述步驟3中,所述干燥溫度優選為60℃,干燥時間優選為12h;在150℃、200℃、250℃保溫時間優選為60min;最后加熱溫度優選為350℃,反應時間優選為10-30min。
10.根據權利要求2所述高透明低介電常數聚酰亞胺薄膜,其特征在于,所述步驟4中,降溫速率優選為2-5℃/min,降溫開始的高溫段350-150℃在氮氣保護中進行。
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