[發明專利]用于檢測并補償壓力測量設備中的快速溫度變化的方法

有效

• 申請號: 201910211245.1
• 申請日: 2019-03-20
• 公開（公告）號: CN110307930B
• 公開（公告）日: 2022-06-14
• 發明（設計）人: 萊溫·迪特爾勒;伯恩哈德·韋勒
• 申請（專利權）人: VEGA格里沙貝兩合公司
• 主分類號: G01L19/04
• 分類號: G01L19/04;G01L9/12
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 曹正建;陳桂香

1.一種用于補償具有測量電容和至少一個參考電容的電容式壓力測量設備(100)中的測量值的方法，其包括以下步驟：

-確定所述參考電容的由壓力引起的電容變化(C_r,p)對所述測量電容的由壓力引起的電容變化(C_m,p)的依賴性，

-確定所述參考電容的由熱沖擊引起的電容變化(C_r,TS)對所述測量電容的由熱沖擊引起的電容變化(C_m,TS)的依賴性，

-測量所述測量電容(C_m,meas)和所述至少一個參考電容(C_r,meas)，

-根據上述依賴性的組合，確定所述測量電容的所述由熱沖擊引起的電容變化(C_m,TS)，

-使用所述測量電容的所述由熱沖擊引起的電容變化(C_m,TS)來補償測量后的所述測量電容(C_m,meas)，并且

-確定并輸出所述測量電容的所述由壓力引起的電容變化(C_m,p)或由其推導出的量，

所述方法包括以下額外步驟：

-確定所述測量電容的由靜態溫度引起的電容變化(C_m,T)對參考溫度(T_ref)和系統溫度(T)的依賴性，

-確定所述至少一個參考電容的由靜態溫度引起的電容變化(C_r,T)對與所述參考溫度(T_ref)和所述系統溫度(T)的依賴性，

-測量所述系統溫度(T)，

-確定所述測量電容的所述由靜態溫度引起的電容變化(C_m,T)，

-通過所述測量電容的所述由熱沖擊引起的電容變化(C_m,TS)和所述測量電容的所述由靜態溫度引起的電容變化(C_m,T)來補償所述測量電容(C_m,meas)，并且

-確定并輸出所述測量電容的所述由壓力引起的電容變化(C_m,p)或由其推導出的量。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，確定所述參考電容的所述由壓力引起的電容變化(C_r,p)對所述測量電容的所述由壓力引起的電容變化(C_m,p)的依賴性的步驟包括：

在至少三個的多個測量點處測量該依賴性，并基于這些測量點進行第一插值。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，確定所述參考電容的所述由壓力引起的電容變化(C_r,p)對所述測量電容的所述由壓力引起的電容變化(C_m,p)的依賴性的步驟包括：

針對每個壓力測量設備(100)，在至少三個的多個測量點處測量該依賴性，并基于這些測量點進行第一插值。

4.根據權利要求2或3所述的方法，其特征在于，

所述參考電容的所述由壓力引起的電容變化(C_r,p)對所述參考電容的所述由壓力引起的電容變化(C_m,p)的依賴性的所述第一插值是利用至少二次的第一多項式進行的。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，確定所述測量電容的所述由靜態溫度引起的電容變化(C_m,T)對所述參考溫度(T_ref)和所述系統溫度(T)的依賴性的步驟包括：

在至少兩個測量點處測量所述測量電容(C_m,meas)對所述系統溫度(T)的依賴性，且基于這些測量點進行第二插值。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，確定所述測量電容的所述由靜態溫度引起的電容變化(C_m,T)對所述參考溫度(T_ref)和所述系統溫度(T)的依賴性的步驟包括：

針對每個壓力測量設備(100)，在至少兩個測量點處測量所述測量電容(C_m,meas)對所述系統溫度(T)的依賴性，且基于這些測量點進行第二插值。