[發明專利]噴墨記錄裝置在審
| 申請號: | 201910210246.4 | 申請日: | 2019-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN110356127A | 公開(公告)日: | 2019-10-22 |
| 發明(設計)人: | 植竹重夫;黑須重隆;牧井厚人 | 申請(專利權)人: | 柯尼卡美能達株式會社 |
| 主分類號: | B41J11/00 | 分類號: | B41J11/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 金光華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 調整部 帶電 電荷 噴墨記錄裝置 記錄材料 對置 噴墨圖像形成裝置 噴墨圖像 配置 | ||
本發明提供一種噴墨記錄裝置。本發明的一個方案的噴墨圖像形成裝置具備:第1帶電調整部,被配置成與所搬送的記錄材料對置,供給一個極性的電荷;以及第2帶電調整部,在搬送方向上在該第1帶電調整部的下游側被配置成與記錄材料對置,供給極性與第1帶電調整部供給的電荷相反的電荷,其中,在帶電調整部的下游形成噴墨圖像。
技術領域
本發明涉及噴墨記錄裝置。
背景技術
以往,關于絕緣性高的樹脂膜、合成紙等片材狀記錄材料(以下總稱為“記錄材料”),由于其制造工序、電暈處理等表面處理工序、搬送工序等中的摩擦帶電、剝離放電、電暈放電而在記錄材料上帶電的電荷不會衰減,而殘留于表面。這些帶電電荷在記錄材料表面并非均勻地分布而局部地帶電為正負兩極性的電荷等成為不均勻的狀態的情形較多。可知在向這樣的絕緣性高的記錄材料進行噴墨(IJ)印刷時,由于記錄材料的帶電而產生如下的圖像噪聲。
在記錄材料等帶電時,由于在該帶電電荷與噴墨頭之間形成的電場,墨液滴的飛翔特性受到影響。由此,產生飛翔速度、飛翔方向變化而墨液滴滴落到記錄材料的未預期的部位等問題。特別是在液滴尺寸小的情況下,空氣阻力所致的減速大,所以易于受到電場的影響,發生如下等問題:成為霧的墨液滴(副液滴(sub-droplet))由于電場而返回到噴墨頭側而附著、或者墨液滴附著于記錄材料的未預期的部位而成為浮渣。從目標的滴落位置偏移的副液滴還被稱為附屬物(satellite)。
圖1A和圖1B示出噴墨方式的圖像形成處理中的記錄材料的帶電和圖像噪聲的關系。圖1A是從噴墨頭射出的飛翔中的墨液滴受到的影響的例子,圖1B是滴落后的墨液滴的例子。
圖1A示出從噴墨頭10射出的墨液滴由體積大的主液滴11和在主液滴11的形成過程中產生的副液滴11a(霧)構成的情況。在圖1A中著眼于空氣阻力大的副液滴11a,考慮副液滴11a帶有正電荷的情況。記錄材料20比較均勻地帶正電,在圖1A中形成有垂直方向電場的場所中,副液滴11a受到朝向與飛翔方向相反方向的噴墨頭10的靜電力(在圖1A中是中央部)。
另外,在由于記錄材料20的帶電不均而形成有水平方向電場的場所(在圖1A中是左側以及右側)中,在副液滴12a接近記錄材料20表面時受到橫向的靜電力。由于這樣的靜電力而墨液滴的速度、方向發生了變化的結果,副液滴12a滴落到與本來預期的位置不同的位置,成為圖像噪聲。另外,在副液滴11a由于靜電力而附著到噴墨頭10時,引起噴墨頭10的污染,特別是在副液滴11a附著到噴嘴附近時引起射出傾斜等不良現象。
而且,可知記錄材料20等帶電電荷還影響剛剛滴落之后的墨液滴。例如,如圖1B所示,由于因記錄材料20的帶電不均引起的面方向的電場,在滴落的墨液滴13中產生靜電感應,靜電力作用于電場方向,所以還產生點形狀散亂的問題。點形狀的散亂(變形)的大小受到面方向電場通過靜電感應的電荷伴隨點變形進行移動而被抵消多少的影響。因此,為了抑制點形狀的散亂,還需要減小記錄材料20的電荷密度的不均。特別是在記錄材料薄的情況下,有帶電電荷的記錄材料表面與記錄材料背面側的電極之間的靜電電容大,所以即使在帶電電位比較小的情況下,電荷密度有時也大,為了抑制點形狀的散亂,重要的是降低電荷密度不均。
關于對記錄材料進行除電的除電裝置,已知具有多個除電部的以下那樣的裝置。在專利文獻1中公開了一種噴墨記錄裝置,從噴墨頭向絕緣性的記錄介質吐出液滴來記錄,該噴墨記錄裝置具有:中和單元,對記錄介質的帶電進行中和;檢測部,檢測記錄介質的帶電狀態;控制單元,根據檢測結果來控制中和單元產生的離子的量;以及導電性部件,與記錄介質接觸并被接地連接。
另外,在專利文獻2中公開了一種記錄裝置,通過向記錄介質的記錄面吐出墨滴而進行記錄,其中,在搬送記錄介質的搬送路徑中與記錄面抵接的從動輥的材料是相比于構成記錄面的部件的材料,在帶電列中位于與伴隨墨滴的吐出而產生的霧所帶電的極性相反的極性側的材料。
現有技術文獻
專利文獻1:日本特開2017-119407號公報
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于柯尼卡美能達株式會社,未經柯尼卡美能達株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910210246.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:電磁波照射機構
- 下一篇:介質支承裝置及記錄裝置





