[發明專利]一種激光清洗裝置在審
| 申請號： | 201910207444.5 | 申請日： | 2019-03-19 |
| 公開（公告）號： | CN111715624A | 公開（公告）日： | 2020-09-29 |
| 發明（設計）人： | 劉娟娟;何崇文;余海龍;王啟明;李立坤;徐會明;周瑞;胡網勤;安旭彤 | 申請（專利權）人： | 武漢光谷航天三江激光產業技術研究院有限公司 |
| 主分類號： | B08B7/00 | 分類號： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京眾達德權知識產權代理有限公司 11570 | 代理人： | 劉杰 |
| 地址： | 430000 湖北省武漢市東湖*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 激光 清洗 裝置 | ||
1.一種激光清洗裝置，其特征在于，所述裝置包括：
激光發生裝置，所述激光發生裝置發出激光束；
準直鏡組，所述準直鏡組接收所述激光束并輸出準直光束；
光束整形元件，所述光束整形元件接收所述準直鏡組輸出的準直光束，并將所述準直光束轉化為貝塞爾光束；
掃描聚焦系統，所述掃描聚焦系統將所述貝塞爾光束聚焦于待清洗工件表面。
2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述激光發生裝置發出的激光束為高斯光束、平頂光束、多模光束中的一種。
3.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述光束整形元件為DOE軸錐鏡。
4.如權利要求3所述的裝置，其特征在于，所述DOE軸錐鏡包括：
激光增透膜，所述激光增透膜鍍于所述DOE軸錐鏡表面。
5.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述貝塞爾光束錐角β＜0.45°。
6.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述掃描聚焦系統是雙軸掃描或單軸掃描系統。
7.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，當所述掃描聚焦系統為雙軸掃描系統時，從所述光束整形元件到所述掃描聚焦系統出光口的光程＜200mm。
8.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述掃描聚焦系統包括：
掃描振鏡，所述掃描振鏡接收所述貝塞爾光束，對所述貝賽爾光束進行一維或二維掃描并輸出；
f-theta聚焦透鏡，所述f-theta聚焦透鏡接收所述掃描后的貝塞爾光束，并將所述貝塞爾光束聚焦于所述待清洗工件表面。
9.如權利要求3所述的裝置，其特征在于，所述DOE軸錐鏡的材料為熔融石英。
10.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述激光發生裝置為紫外激光器。
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