[發(fā)明專(zhuān)利]一種基材的卷對(duì)卷涂布設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910204630.3
• 申請(qǐng)日: 2019-03-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109807009A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉軍;關(guān)敬黨
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 深圳市善營(yíng)自動(dòng)化股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B05B13/02
• 分類(lèi)號(hào): B05B13/02;B05B16/20;B05B13/04;B05B15/00
• 代理公司: 深圳鼎合誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44281
• 代理人: 郭燕;彭家恩

1.一種基材的卷對(duì)卷涂布設(shè)備，其特征在于，包括：

基材放卷裝置，用于間隔預(yù)設(shè)時(shí)間的釋放基材；

第一涂布裝置，其包括：第一真空吸附平臺(tái)和設(shè)置在第一真空吸附平臺(tái)上的第一涂布機(jī)構(gòu)；所述第一真空吸附平臺(tái)用于在預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)吸附基材的反面；所述第一涂布機(jī)構(gòu)用于在預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)對(duì)基材的正面涂布漿料，以形成正面涂層；

第二涂布裝置，其包括：第二真空吸附平臺(tái)和設(shè)置在第二真空吸附平臺(tái)上的第二涂布機(jī)構(gòu)；所述第二真空吸附平臺(tái)用于在預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)吸附基材的正面；所述第二涂布機(jī)構(gòu)用于在預(yù)設(shè)時(shí)間內(nèi)對(duì)基材的反面涂布漿料，以形成反面涂層；

基材收卷裝置，用于間隔預(yù)設(shè)時(shí)間的收卷基材；

所述第一真空吸附平臺(tái)和所述第二真空吸附平臺(tái)的表面都設(shè)置有布設(shè)在各自表面用于均勻各自產(chǎn)生的吸附力的均壓層。

2.如權(quán)利要求1所述的卷對(duì)卷涂布設(shè)備，其特征在于，所述第一真空吸附平臺(tái)和所述第二真空吸附平臺(tái)均包括：開(kāi)設(shè)在各自表面的多個(gè)吸附孔，和設(shè)置在各自?xún)?nèi)部的空腔；所述空腔與所述多個(gè)吸附孔連通，且所述空腔外接真空設(shè)備；所述多個(gè)吸附孔用于在真空設(shè)備的作用下產(chǎn)生所述吸附力。

3.如權(quán)利要求2所述的卷對(duì)卷涂布設(shè)備，其特征在于，所述第一真空吸附平臺(tái)和所述第二真空吸附平臺(tái)均還包括：設(shè)置在各自?xún)?nèi)部的干燥組件；所述第一真空吸附平臺(tái)上的干燥組件用于對(duì)所述正面涂層進(jìn)行干燥，所述第二真空吸附平臺(tái)上的干燥組件用于對(duì)所述反面涂層進(jìn)行干燥。

4.如權(quán)利要求3所述的卷對(duì)卷涂布設(shè)備，其特征在于，所述第一真空吸附平臺(tái)和所述第二真空吸附平臺(tái)均還包括：設(shè)置在各自四周的壓合組件；所述第一真空吸附平臺(tái)上的壓合組件用于壓合住基材的正面邊緣，所述第二真空吸附平臺(tái)上的壓合組件用于壓合基材的反面邊緣。

5.如權(quán)利要求1所述的卷對(duì)卷涂布設(shè)備，其特征在于，還包括：正面保護(hù)膜收卷裝置和反面保護(hù)膜收卷裝置；所述基材的正面設(shè)置有正面保護(hù)膜，反面設(shè)置有反面保護(hù)膜；所述正面保護(hù)膜收卷裝置用于在涂布所述正面涂層之前，剝離并收卷所述正面保護(hù)膜，其設(shè)置在所述基材放卷裝置與所述第一涂布裝置之間；所述反面保護(hù)膜收卷裝置用于在涂布所述反面涂層之前，剝離并收卷所述反面保護(hù)膜，其設(shè)置在所述第一涂布裝置和所述第二涂布裝置之間。

6.如權(quán)利要求5所述的卷對(duì)卷涂布設(shè)備，其特征在于，還包括：正面保護(hù)膜放卷裝置和反面保護(hù)膜放卷裝置；所述正面保護(hù)膜放卷裝置用于釋放正面保護(hù)膜至所述正面涂層的表面，其設(shè)置在所述反面保護(hù)膜收卷裝置與所述第二涂布裝置之間；所述反面保護(hù)膜放卷裝置用于釋放反面保護(hù)膜至所述反面涂層的表面，其設(shè)置在所述第二涂布裝置與所述基材收卷裝置之間。

7.如權(quán)利要求1所述的卷對(duì)卷涂布設(shè)備，其特征在于，還包括：第一預(yù)壓輥機(jī)構(gòu)和第二預(yù)壓輥機(jī)構(gòu)；所述第一預(yù)壓輥機(jī)構(gòu)用于對(duì)所述正面涂層進(jìn)行預(yù)壓；所述第二預(yù)壓輥機(jī)構(gòu)用于對(duì)所述反面涂層進(jìn)行預(yù)壓。

8.如權(quán)利要求7所述的卷對(duì)卷涂布設(shè)備，其特征在于，第一預(yù)壓輥機(jī)構(gòu)和所述第二預(yù)壓輥機(jī)構(gòu)均包括一對(duì)輥面相接的預(yù)壓輥。

9.如權(quán)利要求1所述的卷對(duì)卷涂布設(shè)備，其特征在于，所述第一涂布機(jī)構(gòu)和所述第二涂布機(jī)構(gòu)均包括：模頭，用于向模頭定量供入漿料的供料機(jī)構(gòu)、用于驅(qū)動(dòng)所述模頭上下移動(dòng)的上下驅(qū)動(dòng)組件，和用于驅(qū)動(dòng)所述模頭移動(dòng)以涂布的平移驅(qū)動(dòng)組件；所述模頭具有用于進(jìn)入漿料的進(jìn)料口和用于噴出漿料的出料口，所述供料機(jī)構(gòu)與所述進(jìn)料口連通；所述第一涂布機(jī)構(gòu)上的模頭的出料口正對(duì)于所述第一真空吸附平臺(tái)的表面，所述第二涂布機(jī)構(gòu)上的模頭的出料口正對(duì)于所述第二真空吸附平臺(tái)的表面。

10.如權(quán)利要求1所述的卷對(duì)卷涂布設(shè)備，其特征在于，所述基材的寬度大于所述第一真空吸附平臺(tái)和所述第二真空吸附平臺(tái)的寬度。