[發明專利]一種PERC單晶硅太陽能電池及其制備方法有效
| 申請號: | 201910199066.0 | 申請日: | 2019-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN111769175B | 公開(公告)日: | 2022-08-26 |
| 發明(設計)人: | 趙燕;劉堯平;陳偉;吳俊桃;陳全勝;王燕;杜小龍 | 申請(專利權)人: | 中國科學院物理研究所 |
| 主分類號: | H01L31/068 | 分類號: | H01L31/068;H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京智匯東方知識產權代理事務所(普通合伙) 11391 | 代理人: | 康正德;薛峰 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 perc 單晶硅 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種PERC單晶硅太陽能電池,其特征在于,包括由上至下依次分布的減反射膜、單晶硅片、鈍化膜、保護膜和全鋁背場,所述單晶硅片的正面具有的微米級隨機倒金字塔絨面結構,所述倒金字塔絨面結構的塔頂為四邊形,四邊形的邊長為15μm,倒金字塔的深度為15μm;所述微米級隨機倒金字塔絨面結構通過將所述單晶硅片浸入酸性制絨液中進行表面制絨得到;所述酸性制絨液包括硝酸銅和氧化劑,所述硝酸銅的濃度為60-200mmol/L;所述氧化劑為雙氧水,濃度為1.2-5mol/L;制絨時間為2-4min;表面制絨時的溫度為20-35℃,所述鈍化膜和保護膜上開有貫通所述鈍化膜和保護膜的開口,使得開口處單晶硅片的背面與全鋁背場直接接觸。
2.根據權利要求1所述的PERC單晶硅太陽能電池,其特征在于,所述減反射膜為氮化硅減反射膜,所述單晶硅片的正面還設有柵線電極。
3.根據權利要求1所述的PERC單晶硅太陽能電池,其特征在于,所述倒金字塔絨面結構的表面光滑,結構開闊。
4.根據權利要求1所述的PERC單晶硅太陽能電池,其特征在于,所述鈍化膜為氧化鋁薄膜或氧化硅薄膜;所述鈍化膜的厚度為5-50nm。
5.根據權利要求1所述的PERC單晶硅太陽能電池,其特征在于,所述保護膜為氮化硅薄膜,所述的氮化硅薄膜的厚度為70-120nm。
6.一種PERC單晶硅太陽能電池的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
將單晶硅片浸入酸性制絨液中進行表面制絨,得到具有微米級隨機倒金字塔絨面結構的單晶制絨片;所述酸性制絨液包括硝酸銅和氧化劑,所述硝酸銅的濃度為60-200mmol/L;所述氧化劑為雙氧水,濃度為1.2-5mol/L;制絨時間為2-4min;所述表面制絨時的溫度為20-35℃;所述倒金字塔絨面結構的塔頂為四邊形,四邊形的邊長為15μm,倒金字塔的深度為15μm;
單晶制絨片正面擴散形成PN結;
刻蝕去除背結和邊結;
單晶制絨片背面進行拋光;
背面沉積鈍化膜并退火;
背面沉積保護膜;
正面沉積氮化硅減反射膜;
背面局部開口,并在背面印刷漿料并燒結。
7.根據權利要求6所述的PERC單晶硅太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述酸性制絨液還包含氫氟酸;
所述氫氟酸的濃度為1-10mol/L;
所述的制絨后具有微米級隨機倒金字塔結構的單晶制絨片表面的平均反射率為4-8%。
8.根據權利要求7所述的PERC單晶硅太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述鈍化膜的沉積采用原子層沉積的方法,退火溫度為400-700℃,退火時間為20-40min。
9.根據權利要求7所述的PERC單晶硅太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述背面局部開口采用激光開槽。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院物理研究所,未經中國科學院物理研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910199066.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





