[發明專利]一種清洗液及其制備方法

在審

• 申請號: 201910192161.8
• 申請日: 2019-03-14
• 公開（公告）號: CN109777670A
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發明（設計）人: 鄭資來
• 申請（專利權）人: 惠州市清洋實業有限公司
• 主分類號: C11D7/60
• 分類號: C11D7/60;C11D7/08;C11D7/10;C11D7/26
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 王華強

本發明公開了一種清洗液，其包括以下質量百分比的原料5％～9％絮凝劑、0.05％～0.5％弱酸及0.05％～1.2％強酸；余量為水；本發明還公開了一種清洗液的制備方法，其包括以下步驟：質量百分比分別為89.3～94.9％的水、5～9％的絮凝劑及0.05～0.5％的弱酸依次加入至配液槽中，攪拌均勻后獲得第一混合液；質量百分比為0.05～1.2％的強酸加入第一混合液，獲得第二混合液；第二混合液攪拌55～65分鐘，獲得清洗液。本發明的清洗液具有強清潔力，可以快速去除蝕刻減薄過程中殘留的膠液和玻璃渣等雜質，極大地降低了雜質對玻璃基板的蝕刻影響，避免了玻璃基板出現不均勻凸點、凹點等外觀不良品，產品的良品率高，本發明的清洗液制備方法簡單、易操作，易于工業化推廣應用。

技術領域

本發明涉及清洗液技術領域，具體地，涉及一種清洗液及其制備方法。

背景技術

目前，玻璃基板一般通過化學蝕刻的方法進行減薄處理，在化學蝕刻的工藝中，其工藝過程一般為封膠、減薄及研磨，通過封膠將玻璃基板的邊緣進行密封處理，防止后續蝕刻藥劑進入玻璃基板內部而影響產品性能。蝕刻會將1.0mm或者0.8mm的玻璃基板減薄至0.3mm或者0.4mm，與此同時，在蝕刻減薄過程中會產生一定量的沉淀物，玻璃減薄行業稱其為玻璃渣，其主要成分是氟硅酸鹽、原硅酸、氟鹽等組成的混合物。隨著蝕刻減薄過程的進行，封膠殘留的膠液和玻璃渣等雜質將沉積在鼓泡管或者槽壁，如果不去除會雜質，當再次利用時雜質會影響減薄的玻璃基板，導致玻璃基板的蝕刻減薄無法均勻進行，影響產品的良品率。現有技術中的清洗液無法將玻璃減薄過程中殘留的膠液和玻璃渣等雜質清洗干凈。

發明內容

針對現有技術的不足，本發明提供一種清洗液及其制備方法。

本發明公開的一種清洗液，包括以下質量百分比的原料：5～9％絮凝劑、0.05～0.5％弱酸及0.05～1.2％強酸；余量為水。

根據本發明的一實施方式，清洗液包括以下質量百分比的原料：9％絮凝劑、0.5％弱酸及1.2％強酸；余量為水。

根據本發明的一實施方式，清洗液包括以下質量百分比的原料：7％絮凝劑、0.2％弱酸及0.6％強酸；余量為水。

根據本發明的一實施方式，清洗液包括以下質量百分比的原料：5％絮凝劑、0.05％弱酸及0.05％強酸；余量為水。

根據本發明的一實施方式，絮凝劑為硫酸鋁。

本發明提供的清洗液的制備方法包括如下步驟：

質量百分比分別為89.3～94.9％的水、5～9％的絮凝劑及0.05～0.5％的弱酸依次加入至配液槽中，攪拌均勻后獲得第一混合液；第一混合液的溫度為30～40℃；

質量百分比為0.05～1.2％的強酸加入第一混合液，獲得第二混合液；

第二混合液攪拌55～65分鐘，獲得清洗液；清洗液的溫度為20～40℃。

與現有技術相比，本發明可以獲得包括以下效果：

1)本發明提供的清洗液具有強清潔力，可以快速去除蝕刻減薄過程中殘留的膠液和玻璃渣等雜質，極大地降低了雜質對玻璃基板的蝕刻影響，避免了玻璃基板出現不均勻凸點、凹點等外觀不良品，產品的良品率高。

2)本發明提供的清洗液制備方法簡單、易操作，易于工業化推廣應用。

具體實施方式

以下將揭露本申請的多個實施方式，為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一并說明。然而，應了解到，這些實務上的細節不應用以限制本申請。也就是說，在本申請的部分實施方式中，這些實務上的細節是非必要的。

實施例1