[發明專利]一種結合空腔增強與表面增強的液相拉曼增強光譜襯底

在審

• 申請號: 201910184495.0
• 申請日: 2019-03-12
• 公開（公告）號: CN111693502A
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發明（設計）人: 管志強;徐紅星
• 申請（專利權）人: 武漢大學
• 主分類號: G01N21/65
• 分類號: G01N21/65
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102
• 代理人: 唐萬榮

1.一種結合空腔增強與表面增強的液相拉曼增強光譜襯底，其特征在于，結合光學腔共振模式和金屬表面等離激元的電磁場增強于可見光波段的拉曼檢測襯底，包括介質空腔結構、幣族金屬鍍層。

2.根據權利要求1所述的結合空腔增強與表面增強的液相拉曼增強光譜襯底，其特征在于，介質空腔結構具備凹陷結構，凹陷結構橫向尺寸100納米-900納米，凹陷結構深度50納米-1000納米。

3.根據權利要求1所述的結合空腔增強與表面增強的液相拉曼增強光譜襯底，其特征在于，凹陷結構的頂部和底部覆蓋幣族金屬鍍層，幣族金屬鍍層厚度在20納米至200納米。

4.根據權利要求1或2或3所述的結合空腔增強與表面增強的液相拉曼增強光譜襯底，其特征在于，介質空腔結構通過電子束曝光或者紫外光刻或者納米壓印形成納米結構圖案，通過反應離子束刻蝕或者離子束轟擊或者化學腐蝕方法轉移到介質材料中。

5.根據權利要求1或2或3所述的結合空腔增強與表面增強的液相拉曼增強光譜襯底，其特征在于，幣族金屬鍍層材質為金或銀或銅或鋁。

6.根據權利要求1或2或3所述的結合空腔增強與表面增強的液相拉曼增強光譜襯底，其特征在于，幣族金屬表面覆蓋一層0-10納米厚度的隔離層，用于隔離待測分子并避免待測分子的吸附。

7.一種制備權利要求1-6任一項所述結合空腔增強與表面增強的液相拉曼增強光譜襯底的方法，其特征是，包括以下步驟：

步驟1、制備介質空腔結構：通過電子束曝光或者紫外光刻或者納米壓印形成納米結構圖案，通過反應離子束刻蝕或者離子束轟擊或者化學腐蝕方法轉移到介質材料中。

步驟2、幣族金屬鍍層：在介質空腔結構表面采用物理氣相沉積、電鍍技術制備幣族金屬鍍層。

步驟3、襯底表面隔離層：采用自組裝單分子層或物理、化學沉積氧化物作為襯底表面隔離層。