[發(fā)明專利]一種顯像系統(tǒng)及顯像方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910181125.1 | 申請日: | 2019-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN111458871A | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐俊峰;方濤;吳慧軍 | 申請(專利權(quán))人: | 未來(北京)黑科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B27/01 | 分類號: | G02B27/01;G09F9/00 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 王曉婷 |
| 地址: | 100176 北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯像 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種顯像系統(tǒng),其特征在于,
包括像源(1)和反射顯像件(2),所述像源(1)出射的光線到達(dá)反射顯像件(2)后被反射顯像件(2)反射至人眼形成虛像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述像源(1)出射非偏振光或偏振光。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述反射顯像件(2)反射偏振光至人眼形成虛像。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述像源(1)包括出射非偏振光的裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述像源(1)包括出射偏振光的裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述出射非偏振光的裝置包括LED陣列或QD陣列或PLED或OLED。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述出射偏振光的裝置包括出射非偏振光的裝置和偏振控制裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述出射偏振光的裝置包括依次設(shè)置的光源、LCD和偏光膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述出射非偏振光的裝置包括括LED陣列或QD陣列或PLED或OLED。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述偏振控制裝置采用起偏器或/和波片。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述出射偏振光的裝置包括準(zhǔn)直膜,該準(zhǔn)直膜設(shè)于光源和LCD之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述反射顯像件(2)反射圓偏振光或橢圓偏振光或線偏振光。
13.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述反射顯像件(2)反射S偏振光或P偏振光。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明顯像裝置,其特征在于,所述反射顯像件(2)包括透明基材。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述反射顯像件(2)包括偏振透反膜,該偏振透反膜設(shè)于透明基材一表面。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述反射顯像件(2)包括增透膜,該增透膜設(shè)于透明基材另一表面。
17.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述偏振透反膜反射圓偏振光或橢圓偏振光或線偏振光。
18.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述偏振透反膜反射S偏振光或P偏振光。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的顯像系統(tǒng),其特征在于,所述偏振透反膜采用高分子薄膜或氧化物薄膜制作而成。
20.一種顯像方法,其特征在于,提供如權(quán)利要求1至19中任意一項所述的顯像系統(tǒng),該方法包括以下步驟:
S1首先像源(1)出射光線,并入射在反射顯像件(2)上,光線入射角為α;
S2然后反射顯像件(2)將入射光線反射至人眼,形成虛像;
S3同時外界環(huán)境光通過反射顯像件(2)透射至人眼。
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