[發明專利]一種堿性蝕刻廢液的處理方法

有效

• 申請號: 201910178302.0
• 申請日: 2019-03-11
• 公開（公告）號: CN109761430B
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: 陳永星
• 申請（專利權）人: 福建志坤能源科技開發有限公司
• 主分類號: C02F9/10
• 分類號: C02F9/10;B01D53/78;B01D53/58;C02F101/20;C02F101/16
• 代理公司: 浙江千克知識產權代理有限公司 33246
• 代理人: 裴金華

本發明公開的一種堿性蝕刻廢液的處理方法，（1）在堿性蝕刻廢液中加入過量氧化鈣，并導入蒸氨塔，固液分離得到藍白色沉淀混合物；（2）氨氣由吸收塔吸收，制備20%?40%的氨水溶液；（3）藍白色沉淀混合物加入硫酸至藍色沉淀溶解，固液分離，得到波爾多液儲備液；本發明引入氧化鈣作為堿源，生產波爾多液，且未引入新的污染物，避免將淡水大量鹽化，造成淡水資源的浪費，回收價值高。

技術領域

本發明涉及蝕刻液廢液處理技術領域，具體涉及一種堿性蝕刻廢液的處理方法。

背景技術

蝕刻廢液是印制電路板行業產生的重要污染物，蝕刻廢液中含有大量的銅,若處理不當，不僅對環境產生污染，同時也造成資源的嚴重浪費，常見的蝕刻液主要有堿性蝕刻液、酸性蝕刻液，以及傳統的氯化鐵蝕刻液幾種，相對應產生的蝕刻廢液也主要有酸性蝕刻廢液、堿性蝕刻廢液以及氯化鐵蝕刻廢液，堿性蝕刻液主要成分是含有銅氨離子的溶液，主要成分包括氯化銅、氨水、氯化銨等。在蝕刻電路板時，堿性蝕刻液具有消耗低、價格便宜、溶銅量高、側蝕小、蝕刻速度快等優點，并 且不會破壞 覆銅基板 上的油墨成分，現在已廣泛應用在PCB企業中。

堿性蝕刻液中的[Cu(NH₃)₄]Cl₂能夠與線路板表層的鍍銅發生反應生成亞銅配合物，起到蝕刻作用的是Cu(NH₃)₄⁺，所生成的Cu(NH₃)₂⁺雖然不具備蝕刻能力，但在過量的氨水和氯離子的情況下，能很快被空氣所氧化，重新生成隨著蝕刻液中銅離子濃度的逐漸變大，蝕刻液的蝕刻速度也不斷減小，直至最終失去蝕刻作用而成為蝕刻廢液，因此，堿性蝕刻廢液中的主要成分為絡合物 Cu(NH₃)₂Cl₂、氨水、氯化物等，銅含量約為100-160g/L，總氨（NH₃、NH₄⁺）含量約為150-200g/L，如不經妥當處置就直接排放，不僅浪費了寶貴資源，而且對環境造成巨大傷害。

現有技術中，常用的處理堿性蝕刻液的方法之一是，向堿性蝕刻廢液中加入足量的氫氧化鈉溶液并加熱，生成氧化銅和氨氣從而將廢液中的銅離子和銨根離子提取出來，該工藝技術成熟、處理量大等優點而被廣泛采用，多間廢液處理廠曾建成年處理量為幾萬噸的生產線，然而該技術需要耗用高成本的氫氧化鈉，而產出低價值的氯化鈉，且雖然國家暫不禁止氯化鈉的排放，但也不提倡將有限的、寶貴的淡水大量鹽化，處理后的廢水中氨氮含量不容易達標，為了能有效利用氯離子，回用氯化銨，專利CN103602988A針對回收氯化銨的問題，在加入堿源，用濃鹽酸吸收氨水為氯化銨溶液，實現蝕刻液的再生回用，然而，這樣相當于又引入了新的酸污染物，且需要耗費鹽酸燃料及設備，操作復雜，經濟適用性差，且選用堿源為NaOH或Ca(OH)₂溶液，若選用NaOH溶液，則會排出高濃度NaCl溶液，不僅將有限的、寶貴的淡水大量鹽化，NaOH大量使用價格較貴，轉化為NaCl成本耗費高，且NaOH溶液效果不及NaOH固體反應效率高，反應效率低，且浪費加熱能源，若用Ca(OH)₂溶液，本身Ca(OH)₂是微溶于水的堿性化合物，實際參加反應的溶質低，且在反應之后難免會出現多余的Ca(OH)₂沉淀現象，與銅化物沉淀混合，在該專利中，也未提到將沉淀混合物進一步處理的步驟，因此該技術還存在缺陷。

發明內容

為解決上述問題，本發明提供一種堿性蝕刻廢液的處理方法，在廢液中不引入雜質離子，實現原料的回收利用，避免將淡水大量鹽化，且得到殺菌劑波爾多液儲備液，回收價值高。

本發明解決的技術方案是，提供一種一種堿性蝕刻廢液的處理方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

一種堿性蝕刻廢液的處理方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：