[發(fā)明專利]碳化硼納米片/硼摻雜石墨烯量子點(diǎn)的制備方法及其電還原制氨應(yīng)用

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910178288.4
• 申請(qǐng)日: 2019-03-08
• 公開（公告）號(hào): CN110028961B
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 邱建丁;邱偉斌;梁汝萍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南昌大學(xué)
• 主分類號(hào): C09K11/65
• 分類號(hào): C09K11/65;B82Y20/00;B82Y40/00;B01J27/22;C25B1/00;C25B11/06
• 代理公司: 北京眾合誠成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11246
• 代理人: 胡群

1.碳化硼納米片/硼摻雜石墨烯量子點(diǎn)在電還原制氨上的應(yīng)用，其特征在于：將碳化硼納米片/硼摻雜石墨烯量子點(diǎn)涂覆在碳紙上，制成的碳化硼納米片/硼摻雜石墨烯量子點(diǎn)修飾碳紙電極作為工作電極，將工作電極、參比電極和對(duì)電極用Nafion 211膜隔開，置于含0.1M鹽酸電解質(zhì)溶液的H型電解槽中，通過電化學(xué)工作站在工作電極上施加電壓，將高純氮?dú)獬掷m(xù)通入陰極室，實(shí)現(xiàn)電催化氮?dú)膺€原合成氨。

2.如權(quán)利要求1所述的碳化硼納米片/硼摻雜石墨烯量子點(diǎn)在電還原制氨上的應(yīng)用，其特征在于，所述工作電極的制備方法包括如下步驟：

取碳化硼納米片/硼摻雜石墨烯量子點(diǎn)5mg，并將其和40μL質(zhì)量比為5％的Nafion溶液一同加入到1mL體積比為3∶1的乙醇-水混合溶液中，超聲30min，取20μL混合液滴加到面積為1cm×1cm的碳紙電極表面，自然晾干，制成碳化硼納米片/硼摻雜石墨烯量子點(diǎn)修飾碳紙電極。

3.如權(quán)利要求1所述的碳化硼納米片/硼摻雜石墨烯量子點(diǎn)在電還原制氨上的應(yīng)用，其特征在于，所述的電化學(xué)還原氮?dú)夂铣砂痹诔爻合逻M(jìn)行的。

4.如權(quán)利要求1所述的碳化硼納米片/硼摻雜石墨烯量子點(diǎn)在電還原制氨上的應(yīng)用，其特征在于，碳化硼納米片/硼摻雜石墨烯量子點(diǎn)催化氮?dú)膺€原制氨的最大產(chǎn)氨速率為28.6μg·h^-1·mg^-1，最大法拉第效率為16.7％。