[發明專利]靜電荷像顯影劑及處理盒在審
| 申請號: | 201910171392.0 | 申請日: | 2019-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN110928151A | 公開(公告)日: | 2020-03-27 |
| 發明(設計)人: | 安野慎太郎;鶴見洋介;渡邊拓郎;清野英子 | 申請(專利權)人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | G03G9/08 | 分類號: | G03G9/08 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 彭雪瑞;臧建明 |
| 地址: | 日本東京*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 靜電荷 顯影劑 處理 | ||
1.一種靜電荷像顯影劑,其特征在于,包含:
載體,所述載體在芯材上具有作為下層的包含硅酮樹脂的層及作為上層的包含丙烯酸樹脂的層,或者所述載體在包含硅酮樹脂的芯材上具有包含丙烯酸樹脂的層;
鈦酸鍶粒子,平均一次粒徑為20nm以上且100nm以下;以及
色粉,
所述載體表面上的所述硅酮樹脂的露出率為0.5面積%以上且20面積%以下。
2.根據權利要求1所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述鈦酸鍶粒子的含量以所述色粉的包覆率換算計為10面積%以上且40面積%以下。
3.根據權利要求2所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述色粉的包覆率換算中的所述鈦酸鍶粒子的含量C(t)面積%、與所述載體表面上的所述硅酮樹脂的露出率C(c)面積%的比C(t)/C(c)的值超過0.5且為45以下。
4.根據權利要求1所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
相對于所述鈦酸鍶粒子的總質量,游離的所述鈦酸鍶粒子、及固著于所述色粉上的所述鈦酸鍶粒子除外的所述鈦酸鍶粒子的量為10質量%以上且70質量%以下。
5.根據權利要求1所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述載體的表面粗糙度Ra與所述鈦酸鍶粒子的平均一次粒徑Da的比Da/Ra的值為3以上且45以下,表面粗糙度Ra的單位:μm,平均一次粒徑Da的單位:nm。
6.根據權利要求1所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述載體的表面粗糙度Ra為0.3μm以上且0.9μm以下。
7.根據權利要求1所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述鈦酸鍶粒子的一次粒子的平均圓形度為0.82以上且0.94以下。
8.根據權利要求1所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述鈦酸鍶粒子的一次粒子的累計達到84%的圓形度超過0.92。
9.根據權利要求1所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述鈦酸鍶粒子的利用X射線衍射法所獲得的(110)面的峰值半值寬為0.2°以上且2.0°以下。
10.根據權利要求1至9中任一項所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述鈦酸鍶粒子包含鑭或硅作為摻雜劑。
11.根據權利要求10所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述鈦酸鍶粒子包含鑭作為摻雜劑。
12.根據權利要求1所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述鈦酸鍶粒子的平均一次粒徑為30nm以上且80nm以下。
13.根據權利要求12所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述鈦酸鍶粒子的平均一次粒徑為30nm以上且60nm以下。
14.根據權利要求1所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述包含丙烯酸樹脂的層的平均厚度為0.1μm以上且5μm以下,所述包含硅酮樹脂的層的平均厚度較所述包含丙烯酸樹脂的層而言更厚。
15.根據權利要求1所述的靜電荷像顯影劑,其特征在于:
所述載體為在包含硅酮樹脂的芯材上具有包含丙烯酸樹脂的層的載體。
16.一種處理盒,其特征在于:
包括顯影部件,并可裝卸地設置于圖像形成裝置,所述顯影部件收納根據權利要求1所述的靜電荷像顯影劑,利用所述靜電荷像顯影劑而將形成于像保持體的表面的靜電荷像顯影為色粉圖像。
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