[發明專利]描繪裝置有效
| 申請號: | 201910171295.1 | 申請日: | 2017-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN110031964B | 公開(公告)日: | 2022-06-10 |
| 發明(設計)人: | 加藤正紀;中山修一 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | G02B26/08 | 分類號: | G02B26/08;G02B26/10;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 韓嫚嫚;湯在彥 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 描繪 裝置 | ||
作為于基板(P)上一維地掃描光束(LBn)的光束掃描裝置的掃描單元(Un),具備于一方向具有聚焦力的第1柱面透鏡(CY1)、使透過第1柱面透鏡(CY1)的光束(LBn)偏向以便進行一維掃描的多面鏡(PM)、將以遠心的狀態偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的fθ透鏡系統(FT)、及入射透過fθ透鏡系統(FT)的光束(LBn)且于一方向具有聚焦力的第2柱面透鏡(CY2),第1柱面透鏡(CY1)與第2柱面透鏡(CY2)于彼此正交的方向具有聚焦力,該掃描單元(Un)進而具備設置于第1柱面透鏡(CY1)與多面鏡(PM)之間的透鏡系統(G10)。
本申請是分案申請,原案的申請號為201780027995.2(PCT/JP2017/016274),申請日為2017年04月25日,發明名稱為“光束掃描裝置及描繪裝置”。
技術領域
本發明關于一種為于基板描繪特定圖案而沿主掃描方向一維地掃描光束的光束掃描裝置、及使用該光束掃描裝置描繪特定圖案的描繪裝置。
背景技術
已知,通過使用fθ透鏡系統及多面鏡(旋轉多面鏡),可等速地掃描投射至感光材料上的光束。一般的多面鏡的各反射面是與正交于多面鏡的旋轉面(包含旋轉方向的平面)的方向平行地形成,但實際的反射面伴隨有如相對于與多面鏡的旋轉面正交的方向略微傾斜的誤差,即所謂面傾斜(傾斜)誤差。該誤差因每一反射面而異,故通過fθ透鏡系統于感光材料上成像的光點的像位置(光束的投射位置),于每個反射面有所偏移。
為防止該投射位置的偏移,于下述日本專利特開平8-297255號公報中,在多面鏡的前方與fθ透鏡系統之后此2處,配置有僅在相對于多面鏡的偏向方向(掃描方向、多面鏡的旋轉方向)正交的方向具有折射力的柱面透鏡。即,配置有如母線與光束的掃描方向平行的2個柱面透鏡。由此,于與光束的掃描方向(主掃描方向)正交的方向(副掃描方向)上,可使多面鏡的反射面上與感光材料的被照射面成為共軛關系,即使面斜率誤差因多面鏡的反射面而異,亦可使光束于感光材料上的投射位置在副掃描方向固定。
然而,如日本專利特開平8-297255號公報所述,將配置于多面鏡前方的第1柱面透鏡、及配置于fθ透鏡系統(由多片球面透鏡所構成)之后的第2柱面透鏡的各個由單透鏡構成,且使第1柱面透鏡的母線與第2柱面透鏡的母線平行的情形時,存在難以進行用以將由柱面透鏡所產生的像差(例如光束的球面像差)良好地降低的光學設計(像差修正)等問題。
發明內容
本發明的第1實施方式的光束掃描裝置,是一面將來自光源裝置的光束投射至被照射體、一面于上述被照射體上一維地掃描上述光束,其具備:第1光學構件,其將上述光束聚光于對應上述一維方向的第1方向;光束偏向構件,其使通過上述第1光學構件的上述光束射入,為進行上述一維掃描而使上述光束偏向于上述第1方向;掃描用光學系統,其使以上述光束偏向構件偏向的上述光束射入,并投射向上述被照射體;第2光學構件,其使通過上述掃描用光學系統的上述光束射入,并將上述光束聚光于與上述第1方向正交的第2方向;及透鏡系統,其設置于上述第1光學構件與上述光束偏向構件之間,將通過上述第1光學構件的上述光束于上述光束偏向構件的位置聚光于上述第2方向。
本發明的第2實施方式的描繪裝置,是一面于被照射體上在主掃描方向掃描來自光源裝置的光束,一面使上述被照射體與上述光束于副掃描方向相對移動,以于上述被照射體描繪圖案,其具備:可動偏向構件,其為于上述主掃描方向掃描上述光束,而上述光束射入并使其于上述主掃描方向一維偏向;掃描用光學系統,其使以上述可動偏向構件一維偏向的上述光束射入,并將上述光束聚光投射至上述被照射體上;第1光學構件,其具有異向性的折射力,將朝向上述可動偏向構件的上述光束收斂于上述主掃描方向;第2光學構件,其具有異向性的折射力,將自上述掃描用光學系統射出而朝向上述被照射體的上述光束收斂于上述副掃描方向;及第3光學構件,其設置于上述第1光學構件與上述可動偏向構件之間,且具有使收斂于上述主掃描方向的上述光束射入,并將之轉換為于上述副掃描方向收聚的光束并使其朝向上述可動偏向構件射出的等向性的折射力。
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