[發(fā)明專利]光調(diào)制器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910168467.X | 申請日: | 2019-03-06 |
| 公開(公告)號: | CN110320681A | 公開(公告)日: | 2019-10-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 本谷將之;片岡利夫 | 申請(專利權)人: | 住友大阪水泥股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/03 | 分類號: | G02F1/03;G02F1/035 |
| 代理公司: | 中原信達知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 方應星;高培培 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 控制電極 電連接部 高頻信號 光調(diào)制器 中繼線路 基板 共面線路 接地電極 信號電極 中繼基板 光波導 施加 電場 傳輸損失 電光效應 光波 電連接 作用部 波導 調(diào)制 相等 移交 傳播 | ||
本發(fā)明提供一種光調(diào)制器,能降低在光調(diào)制器的控制電極與中繼基板的中繼線路電連接時的高頻信號的傳輸損失,具有:基板,具有電光效應;光波導,形成于基板;控制電極,形成于基板,為了對在光波導中傳播的光波進行調(diào)制而施加高頻信號;中繼基板,具備用于將高頻信號移交至控制電極的中繼線路。該控制電極和該中繼線路至少包括兩者的電連接部,都具備共面線路結(jié)構,控制電極具有該控制電極的電連接部和處于從該控制電極的電連接部到對光波導施加電場的作用部之間的圍繞部,圍繞部具備共面線路結(jié)構,控制電極的電連接部中的夾著信號電極的接地電極間的距離(G2)與圍繞部的夾著信號電極的接地電極間的距離(G1)大致相等。
技術領域
本發(fā)明涉及光調(diào)制器,尤其涉及如下的光調(diào)制器,即具有:基板,具有電光效應;光波導,形成于該基板;控制電極,形成于該基板,為了對在該光波導中傳播的光波進行調(diào)制而施加高頻信號;及中繼基板,具備用于將該高頻信號移交至該控制電極的中繼線路。
背景技術
在光通信領域和光測量領域中,大多使用在鈮酸鋰基板(LN基板)等具有電光效應的基板上組裝有光波導和控制電極的光調(diào)制器。在向這些光調(diào)制器的控制電極輸入高頻信號,或者從控制電極的終端輸出高頻信號時,使用中繼基板、終端基板。在本發(fā)明的說明中,以中繼基板為中心進行說明,但是終端基板也能夠采用完全同樣的結(jié)構,因此本發(fā)明的“中繼基板”以也包括終端基板的意思使用。
光調(diào)制器的控制電極和形成于中繼基板的中繼線路具備共面線路結(jié)構,以傳輸高頻信號。并且,構成控制電極的信號電極與中繼線路的信號線路、構成控制電極的接地電極與中繼線路的接地線路通過金線、金帶等相互引線接合,構成控制電極的接地電極與中繼線路的接地線路通過金線和金帶等相互引線接合。
中繼基板通常使用釩土等材料,因此中繼基板與構成光調(diào)制器的基板(LN基板等)的介電常數(shù)不同。因此,在控制電極與中繼線路的電連接中,通常進行調(diào)整以使兩者的特性阻抗一致。
如專利文獻1所示,為了進行控制電極與中繼線路的電連接,必須在信號電極、信號線路形成焊盤部,來確保進行引線接合的區(qū)域。因此,信號電極的焊盤部比信號電極的除焊盤部以外的部分的寬度寬,伴隨于此,以夾著信號電極的方式配置的接地電極間的距離也變寬。并且,以配合信號電極的寬度的變化地使接地電極間的距離也變化的方式設定。
因這樣的焊盤部引起的電極形狀的變化,尤其是由于使接地電極的電流路徑變大,成為使因輻射引起的高頻信號的傳輸損失增大的原因。因此,在專利文獻1中,提出有對連接控制電極和中繼線路的引線接合的位置進行調(diào)整的方法、對接地電極的信號電極側(cè)的邊緣形狀進行調(diào)整的方法。
但是,在這些結(jié)構中,難以充分降低傳輸損失,尤其在提供超過30GHz乃至達到100GHz的寬帶化的光調(diào)制器方面,必須進一步降低高頻信號的傳輸損失。
【現(xiàn)有技術文獻】
【專利文獻】
專利文獻1:日本特開2015-191137號公報
發(fā)明內(nèi)容
【發(fā)明要解決的技術問題】
本發(fā)明要解決的技術問題在于,解決上述的問題,提供降低在光調(diào)制器的控制電極與中繼基板的中繼線路電連接時高頻信號的傳輸損失的光調(diào)制器。
【用于解決技術問題的技術方案】
為了解決上述技術問題,本發(fā)明的光調(diào)制器具有以下的技術特征。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構中的





