[發明專利]烤肉爐及其烤盤有效
| 申請號: | 201910168376.6 | 申請日: | 2019-03-06 |
| 公開(公告)號: | CN111657752B | 公開(公告)日: | 2022-05-10 |
| 發明(設計)人: | 吳韋澂 | 申請(專利權)人: | 愛烙達股份有限公司 |
| 主分類號: | A47J37/01 | 分類號: | A47J37/01;A47J37/06 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨;李林 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 烤肉 及其 | ||
本發明提供一種烤肉爐及其烤盤,該烤盤一側設置有一個燒烤面且相異的一側設置有一個受熱面,烤盤設置有一個遮蓋部,遮蓋部鄰近燒烤面的一側凹設有至少一個凹槽,遮蓋部連接有至少一個擋片,至少一個擋片對應至少一個凹槽,擋片設置于凹槽鄰近受熱面的位置,凹槽其中一側的內周緣設置有一個第一切邊,擋片的一端設置于凹槽內相反于第一切邊一側的內周緣并以一體成型結構固定連接于遮蓋部,擋片相反于遮蓋部的一端設置有一個第二切邊,第二切邊與第一切邊的形狀相同,烤盤通過上述結構改善烹調方式且能夠避免油、水滴落在瓦斯管路上。
技術領域
本發明主要涉及一種烤盤,尤指能夠改善烹調方式的烤盤。
背景技術
請參閱中國臺灣專利第I375777號的「瓦斯罐加熱裝置」專利案,其為一種瓦斯罐加熱裝置,其包括有:導熱桿、導熱片與結合件,其中導熱桿第一端穿伸于烤肉爐而接觸于火源,導熱桿第二端穿伸于導熱片,同時導熱片利用結合件結合于瓦斯罐,熱能由導熱桿直接傳導至導熱片,導熱片同時將熱能直接傳導至瓦斯罐,熱能經由直接接觸的熱傳導而不易散失。
然而,上述加熱裝置的烤肉盤設置有能夠覆蓋加熱管的區域,烤肉盤上覆蓋加熱管的區域是平面實心結構而未設置穿孔,雖能夠阻擋油、水滴落在加熱管上,但食材放在上述區域烹煮時,是以面接觸方式貼在烤肉盤上,且浸泡在食材本身滲出的油、水內,相當于在此區域上是以煎的方式烹煮食材而非以烤的方式,難以烹調出使用者期待的口味。
發明內容
本發明的目的在于:提供一種烤肉爐及其烤盤,解決現有技術中存在的上述技術問題。
本發明提供一種烤盤,該烤盤的一側設置有一個燒烤面且相異的一側設置有一個受熱面,該烤盤設置有一個遮蓋部,該遮蓋部鄰近該燒烤面的一側凹設有至少一個凹槽,該遮蓋部連接有至少一個擋片,該至少一個擋片對應該至少一個凹槽,該擋片設置于該凹槽鄰近該受熱面的位置,該凹槽其中一側的內周緣設置有一個第一切邊,該擋片的一端設置于該凹槽內相反于該第一切邊一側的內周緣并以一體成型結構固定連接于該遮蓋部,該擋片相反于該遮蓋部的一端設置有一個第二切邊,該第二切邊與該第一切邊的形狀相同,該烤盤通過上述結構改善烹調方式且能夠避免油、水滴落在瓦斯管路上。
該擋片與該遮蓋部之間的夾角小于45度。
該烤盤沿水平方向的一端設置有一個第一邊且相反的一端設置有一個第二邊,該第一邊呈直線形,該第二邊呈弧形,該遮蓋部包括有一個第一區、一個第二區、一個第三區及一個第四區,該第一區及該第二區的一端分別連接于該第一邊且另一端往鄰近該第二邊的方向延伸,該第三區的一端連接于該第一區鄰近該第二邊的一端且該第三區的另一端連接于該第二區鄰近該第二邊的一端,該第四區的一端連接于該第一區且另一端連接于該第二區,該第四區設置于該第一邊與該第三區之間。
該至少一個凹槽的數量為四個,該至少一個擋片的數量為四個,四個該擋片對應四個該凹槽,該四個凹槽的其中兩個設置于該第一區且另外兩個設置于該第二區。
該烤盤穿設有數個穿槽,該數個穿槽分別設置于該烤盤上該遮蓋部以外的位置,該數個穿槽分別由該燒烤面貫穿至該受熱面。
本發明還提供一種烤肉爐,包括有一個爐體并設置有上述烤盤,該爐體設置有一個加熱管,該加熱管內部中空且能夠供瓦斯流通,該烤盤連接于該爐體,該受熱面鄰近該加熱管,該遮蓋部完全覆蓋該加熱管沿垂直方向上方的區域。
本發明的烤盤通過上述結構改善烹調,能夠避免油、水滴落在該加熱管上。
附圖說明
圖1是本發明烤肉爐的立體外觀圖。
圖2是本發明烤肉爐的立體分解圖。
圖3是本發明烤盤的立體外觀圖。
圖4是本發明烤盤的平面外觀圖。
圖5是本發明烤盤的剖面結構圖。
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