[發明專利]帶取向膜基板的制造方法有效
| 申請號： | 201910168183.0 | 申請日： | 2019-03-06 |
| 公開（公告）號： | CN110231737B | 公開（公告）日： | 2022-09-27 |
| 發明（設計）人： | 谷池康司郎;弓波亮介 | 申請（專利權）人： | 夏普株式會社 |
| 主分類號： | G02F1/1337 | 分類號： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334 | 代理人： | 汪飛亞;習冬梅 |
| 地址： | 日本國大*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 取向 膜基板 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種帶取向膜基板的制造方法，其特征在于，具有：
涂膜形成工序，在基板的表面涂布含有在主鏈具有偶氮苯基的第一高分子、第二高分子和溶劑的取向膜組合物，形成涂膜；
預干燥工序，加熱所述基板使所述溶劑的一部分揮發，使所述涂膜干燥；以及
加熱曝光工序，加熱所述預干燥工序后的所述基板并對所述涂膜照射光，
在所述預干燥工序中，所述取向膜被層分離為位于所述基板的相反側的表面的包含所述第一高分子的光取向層和與所述基板相接的包含所述第二高分子的基底層，
在所述加熱曝光工序中，在60～80℃下加熱所述基板，并照射中心波長為350～450nm且不含小于300nm的波長的光。
2.根據權利要求1所述的帶取向膜基板的制造方法，其特征在于，
在所述加熱曝光工序中，提高所述光取向層中所含的所述偶氮苯基的反應性的同時使其異構化。
3.根據權利要求1或2所述的帶取向膜基板的制造方法，其特征在于，
在所述預干燥工序中，在50～80℃下加熱所述基板。
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